恩科优总部位于美国California Morgen Hill。2005年，由Neutronix公司与Quintel公司合并为新的Neutronix-Quintel公司，即恩科优，并致力于掩膜对准与光刻系统的研究与制造工艺。 恩科优的主要产品是用来生成大规模集成电路的掩膜曝光机，即光刻机，在制造接触式和接近式光刻机领域具有领先地位，已售出四千台以上光刻工艺系统设备。包括洛克希德·马丁（Lockheed Martin），希创唐纳（Systron Donner），飞利浦（Philips），摩托罗拉（Motorola），美国国家半导体（National Semiconductor）等在内的科研机构与企业采购其设备，并建立长期合作关系。