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仪器网/ 行业应用/ 解决方案/ 大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

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内容节点
概述
实验/设备条件
样品提取
实验/操作方法
实验结果/结论
仪器/耗材清单
2. 试 验
金刚石自支撑膜是由本实验室的100KW 级高功率直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统制备而成,沉积金刚石自支撑膜的工艺参数如表1 所示
Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film
功率 KW 15
沉积室压强 KPa 4.2
基体温度 ~950
H2 流量 SLM 8
CH4 流量 SCCM 120
Ar 流量 SLM 2
沉积时间 hour 80
基体 Mo
金刚石自支撑膜的直径为60mm,厚度为1mm,生长面的Z初粗糙度Ra 大于12m,并且表面生长不均匀,呈现起伏不平的形貌特征
抛光设备选用沈阳科晶设备制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自动研磨抛光机,该设备可无级调速,试样加载为载物盘自身重力加载,铸铁盘选平面盘或带槽平盘,还可同时加工3 个试样达到小批量生产的能力该设备研磨盘旋转平稳,380mm 的研磨抛光盘的跳动范围在5~10m,对试样损害小
金刚石粉选用高温高压爆炸法制备的筛选粉,粒度级别分别是100/120140/170200/230,采用加水研磨,金刚石粉可部分回收
本实验旨在探索新的设备的工艺参数,故尝试不同的转速,不同的金刚石粉颗粒尺寸,不同表面形状的研磨盘,工作固定的时间段,选择Zda磨削量的工艺参数作为结果参数 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机
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