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- wwp10191 2016-12-22 00:00:00
- 电子衍射和X射线衍射一样,可以用来作物相鉴定、测定晶体取向和原子位置。由于电子衍射强度远强于X射线,电子又极易为物体所吸收,因而电子衍射适合于研究薄膜、大块物体的表面以及小颗粒的单晶。此外,在研究由原子序数相差悬殊的原子构成的晶体时,电子衍射较X射线衍射更优越些。会聚束电子衍射的特点是可以用来测定晶体的空间群(见晶体的对称性)。 采用波长小于或接近于其点阵常数的电子束照射晶体样品,由于入射电子与晶体内周期地规则排列的原子的交互作用,晶体将作为二维或三维光栅产生衍射效应,根据由此获得的衍射花样研究晶体结构的技术,称为电子衍射。这是1927年分别由戴维孙(C.T.Davison)和革末(L.H.Germer),以及汤姆孙(G.P.Thomson)独立完成的实验。和X射线衍射一样,电子衍射也遵循劳厄(M.vonLaue)方程或布喇格(W.L.Bragg)方程。由于电子与物质的交互 电子衍射作用远比X射线与物质的交互作用强烈,因而在金属和合金的微观分析中特别适用于对含少量原子的样品,如薄膜、微粒、表面等进行结构分析。 三维晶体点阵的电子衍射能量高于100keV、波长小于0.037┱的电子束在物质中的穿透能力约为0.1μm,相当于几百个原子层。如果以这样的高能电子束作为入射源,则可以从薄膜或微粒的样品中获得表征三维晶体点阵的电子衍射花样。 在电子显微镜中,根据入射电子束的几何性质不同,相应地有两类衍射技术。一类是选区电子衍射(selectedareadiffraction)或微衍射(microdiffraction),它以平行的电子束作为入射源;另一类是会聚束电子衍射(convergentbeamdiffraction),它以具有一定会聚角(一般在±4°以内)的电子束作为入射源。这两类技术都有很大发展,并具有各自不同的专门用途。 选区电子衍射(SAD)在图1所示的电子衍射仪中,通过聚光透镜系统把波长为λ的细小平行电子束照射到样品上,如果点阵平面间距为d的(hkl)面满足衍射条件,即 2dsinθ=λ⑴ 式中θ为布喇格角,则在与透射束成2θ角的方向上得到衍射束,并与距样品L处的荧光屏或照相底版相交,给出由衍射斑点或衍射环组成的花样。由于λ«d,使衍射角2θ很小,从式⑴和图1可以得到如下简单关系 Rd=λL⑵ 其中L为电子衍射相机长度,而λL为相机常数。由此可见,单晶花样中的衍射斑点或多晶花样中的衍射环与ZX斑点之间的距离R简单地正比于(或倒易矢量g的长度)。同时,由于θ角极小,通常只有近似平行于入射电子束方向的点阵平面组才可能满足衍射条件。所以,对于单晶样品,一般情况下花样仅是某一晶带(其晶带轴接近平行于电子束入射方向)所属晶面所产生的,它简单地就是相应倒易点阵平面内阵点排列图形的“放大”像,与样品晶体的取向之间存在着明显的直观联系。 在透射电子显微镜中,根据阿贝(Abbe)衍射成像原理(见电子显微学),其物镜的背焦平面上存在着一幅相机长度等于物镜焦距f0的衍射花样,然后它被中间镜和投影镜放大后投射到荧光屏或照相底版上。此时,有效相机长度L可以表达为: L=f0MiMp⑶式中Mi,Mp分别是中间镜和投影镜的放大倍数。 为了研究样品上一个小区域的晶体结构或取向,我们可以在物镜像平面上放置一个视场光阑,此时投射到光阑孔 电子衍射外面的成像电子束将被挡住,不能进入中间镜,这就相当于在样品上选择了分析的范围。利用这种方法,可以获得1μm或更小一些选区的衍射花样。图2是从00Cr18Ni5Mo3Si2双相不锈钢金属薄膜样品中得到的选区电子衍射花样和相应的明、暗场象。 由于物镜球差及其聚焦误差等原因,很难精确地从小于0.5μm的区域中得到衍射。随着扫描透射电子显微术(STEM)的发展,采用强烈聚焦的细小电子束照射样品上极其有限的区域,与视场光阑的方法相比,不但选区尺寸小,而且精度高。这就是所谓微衍射(选区小于100nm)和微微衍射(选区小于10nm),也有人把它们分别叫做μ衍射和μμ衍射。此外,在透射电子显微镜中,还可以进行高分辨率衍射(highresolutiondiffraction)和高分散性衍射(highdispersivediffraction,即小角衍射)等。 在材料科学领域内,选区电子衍射技术主要用于:①物相鉴定;②取向关系测定;③脱溶时的沉淀相惯析面以及滑移面等的测定;④晶体缺陷分析;⑤有序无序转变、spinodal分解、磁畴的研究等。 会聚束电子衍射(CBD)如果利用透射电子显微镜的聚光系统产生一个束斑很小的会聚电子束照射样品,形成发散的透射束和衍射束。此时,由于存在一定范围以内的入射方向,通常的衍射“斑点”扩展成为衍射“圆盘”,典型的花样如图4所示。除了被分析的区域小(100nm以下)以外,会聚束电子衍射的主要优点在于通过圆盘内晶带轴花样及其精细结构的分析,可以提供关于晶体对称性、点阵电势、色散面几何等大量结构信息。 在材料科学中,会聚束衍射技术主要用于:①确定晶体结构对称性,包括对称ZX、滑移面、螺旋轴等的存在;②鉴定晶体的点群和空间群;③精确测定晶体的点阵常数、结构因子和样品厚度;④由高阶劳厄带(higherorderLauezone,即HOLZ)圆环的直径迅速测定层状结构晶体的层间周期等。
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文章由济南三泉中石实验仪器有限公司提供
薄膜抗冲击性能是农地薄膜和包装用复合薄膜袋的重要参数,不管是对于膜下生物的保护还是对于内容物的保护都是重要指标。那么薄膜抗冲击如何测试,有哪些测试原理呢?
对于现有的国家标准来讲,针对薄膜抗冲击有两种测试原理:自由落镖冲击法和抗摆锤冲击法。我们分别来看这两种方法原理。
第一法:自由落镖冲击法。其根据国标 GB/T9639《塑料薄膜和薄片抗冲击性能试验方法自由落镖法》要求,和美标ASTM D1709采用自由落镖法测定塑料薄膜耐冲击性的标准试验方法,适用于厚度小于1mm的塑料薄膜或薄片在给定高度的自由落镖冲击下,测定50%塑料薄膜或薄片试样破损时的冲击质量和能量。具体测试原理为:试验开始时,首先选择试验方法,估计一个初始质量和Δm值,进行试验,如果*个试样破损,用砝码Δm减少落体质量;如果*个试样不破,须用砝码Δm增加落体质量依此进行试验。总之,利用砝码减少或增加落体质量,取决于前一个试样是否破损。20个试样试验后,计算破损总数N,如果N等于10,试验完成;如果N小于10,补充试样后,继续试验直到N等于10;如果N大于10,补充试样后,继续试验直到不破损的总数等于10为止,之后由系统自动计算冲击结果。要明确落镖冲击法薄膜冲击适用于农地薄膜、手提塑料袋、薄膜包装袋等产品,其测试的对象就是单层的薄膜材料。我们使用的是济南三泉中石实验仪器有限公司生产的BMC-AB自由落镖冲击试验机。
第二法:抗摆锤冲击法。其根据国标GB/T 8809塑料薄膜抗摆锤冲击试验方法,和美标ASTM D3420塑料薄膜耐摆锤式冲击的标准试验方法。其测试原理为:用ZJM-06薄膜冲击试验仪的半球形冲头在一定的速度下冲击并穿过薄膜试样,测量冲头所消耗的能量,以此评价薄膜的抗摆锤冲击能力。其更加适用于复合薄膜类,如食品包装中的耐蒸煮袋、复合薄膜、多层共挤薄膜等产品,比较形象的模拟了包装材料在使用过程中受到外界重物的冲击或者跌落后,薄膜的破损情况。其广泛使用的是济南三泉中石实验仪器有限公司生产的ZJM-06智能摆锤冲击仪。可以冲击能量1-5J可调,适用于不同冲击能量的材料测试。
以上两种薄膜抗冲击试验方法原理不同,适用的产品也不同,当然测试结果也无法比较。对于使用人来说要首先确定产品标准中要求使用哪种原理的冲击,选定测试原理后再选择对应的测试仪器。也可以咨询专业的仪器制造企业进行咨询。
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