【网课推荐】先进材料生产、制造过程中如何利用表征手段实现超越

材料行业的企业，如何在现有投入中获取ZD化效益是永恒的话题。为提高产品品质而配置的高端色谱、质谱表征设备，如何预期其产出效率？如何ZD化发挥推进流程、优化品质、缩短产品周期的作用？如何以应用需求为导向合理配置表征设备？

现沃特世特邀您参加2021实验室流程GX化之旅，通过为期4期的线上活动，聚焦在原料放行、研发、质控、溯源等不同的流程，娓娓道来不同技术的特点和应用实例，与您一起探讨如何解开色谱、质谱表征技术效率提升的密码。以及不同流程中应如何选择色谱、质谱的表征技术。

推荐参会人员：实验室理化分析、研发人员等，需要把控分析仪器整体架构、配置以及应用难题解决方案的同仁。

DY期时间：2021年3月25日（周四） 19:15-20:45

此次会议中，您将获得液相色谱表征效率提升的手段，如何依据样品情况配置检测器和色谱柱，如何判断行业内应用所需的平台扩展

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色谱、质谱技术在工业制造中应用示例

半导体芯片生产制造过程中，光刻技术用到的光阻涂层溶液分析，就可以应用到液相色谱和质谱技术，JZ控制光致抗蚀剂配方中光酸生成剂（PAG）、光阻聚合物以及酸终止剂（NACL）等成分在溶液中的比例，尤其酸生成剂与聚合物的比例，以及酸生成剂和终止剂的含量，乃至未知的杂质含量。

例如下图中，基于UPLC/UV/MS系统的分析，在210 nm紫外检测下，可以看到光酸生成剂PAG-阳离子（TPS）和中止剂（NACL），通过看是否有额外的色谱峰，可以判断光阻涂层材料是否被污染。检测只需要3min。

图：光阻涂层溶液分析（UPLC/UV：210nm）

增加质谱信号的情况下，在负离子扫描模式中，可以看到光酸生成剂PAG阴离子（PFBuS），没有显示污染的其他峰，当在质谱在正离子扫描模式中，可以看到光酸生成剂PAG的阳离子（TPS）和酸终止剂（NACL）信号，色谱中没有额外的指示污染的峰。

图：光阻涂层溶液分析（UPLC/MS ESI负离子扫描模式（左）正离子扫描模式（右））

除此之外，还可以进行样品和控释样品的比较，判断批次的稳定性，不单单是过程控制、研发工艺流程研究的有力手段，还可以作为JZ、GX的质控手段。

图：批次间NACL（酸终止剂）差异比较（有显著差异，Delta=-9.4%）

材料，尤其高端电子行业化学品需要高灵敏度、精细地细节把控以及灵活地调控适合的表征，需要系列地表征手段地辅助才可以实现。Waters专注于材料表征，从合成、纯化、到工艺筛选；从单体、配方、到产品质控；从研发到问题溯源都必不可少的有机成分分析。欢迎扫描下方二维码，报名并锁定2021材料科学色谱、质谱GX化之旅的席位，并可于会后获取回看链接。

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