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CRFPLASMA-等离子清洗机的使用范围

来源:深圳市诚峰智造有限公司 更新时间:2018-09-08 16:50:11 阅读量:496

本文导读:等离子清洗技术能够清除金属、陶瓷、塑料、玻璃表面的有机污染物,可以明显改变这些表面的粘接性及焊接强度。离子化过程能够容易地控制和安全地重复实现。可以说,有效的表面处理对于产品的可靠性或过程效率的提高是至关重要的,等离子技术也是目前Z理想的技术。通过表面活化,等离子技术可以改善绝大多数物质的性能:洁净度、亲水性、斥水性、粘结性、标刻性、润滑性、耐磨性。下面,我们来了解等离子清洗机使用范围。


1.清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。

2.清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

3.移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。

4.清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。

5.清洗半导体元件、印刷线路板。

6.清洗生物芯片、微流控芯片。

7.清洗沉积凝胶的基片。

8.高分子材料表面修饰。

9.牙科材料、人造移植物、YL器械的消毒和杀菌。

10.改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

等离子清洗机使用范围(诚峰智造)就为大家讲述到这了。欢迎留言咨询探讨。


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