PCI 共光路干涉弱吸收测量仪

     随着高能激光的发展，对光学材料提出越来越高的要求，而光学材料由于制造工艺（生长工艺）、原材料杂质的存在，不可避免的存在吸收。随着光学材料研究的进一步深入，人们对于材料吸收系数的研究越来越深刻。研究发现，光学材料吸收电磁波后，能将电磁波能量转换成热能，从而引起光学材料内部温度升高。大的吸收系数是限制高能激光发展的主要因素之一，尤其对于强激光系统。据国外研究表明，100ppm/cm的吸收系数会导致光学材料约0.4°的升温，进而导致光学系统的不稳定。

       传统意义的测量方法是无法测量到ppm量级的吸收系数，而如此小的吸收系数就能给您的应用带来不可想象的困难。因此，需要测量材料的吸收系数，通过测量吸收系数一方面可以为您选择合适的光学材料，另一方面可以帮助材料生产厂家在研究造成吸收大的原因时，从源头上解决吸收问题。

     公司自主研发共光路干涉弱吸收测量仪，测量精度高，单次测量可实现体和面吸收分开，测量速度快并可实现面扫描，可测量不同入射角的膜吸收。

     本公司可提供快速测试吸收样品服务，欢迎垂询！

规格

应用

• 光学薄膜

• 光学晶体材料

• 光学镜片

特点

• 精度高：0.1ppm

• 一次测量可以区分体、面吸收

• 扫描速度快（几分钟）

• 对样品规格要求不高

• 操作方便、简单
  

性能

• 测量晶体（LBO、YVO4、KTP...）或光学产品（K9、BK7、UVFS...）内部材料的弱吸收（体吸收）

• 测量晶体或光学产品的表面吸收或薄膜吸收

软件界面

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