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聚束科技(北京)有限公司
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激光分子束外延分析系统 180 Laser MBE/PLD

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详细介绍


特点

独立的MAPLE PLD系统
有机和聚合物薄膜的沉积
在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源
Load-lockable衬底阶段
与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统


激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射(RHEED)的联合应用,用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空(<10-6 torr)环境下使用。然而,因为在某些特殊情况下,PLD 采用较高的压力,差动抽气是必要 的,维持 RHEED 电子枪的工作压力,同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时,设计完整的系统消除磁场对电子束 的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统,比如超高真空激光衬底加热器,用于集成原位分 析系统(XPS/ARPERS 等)。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS等)。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。

技术参数

1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)

2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射加热器)

3.衬底加热:1000 ℃(激光加热器);850℃(辐射加热器)

4. 目标旋转:直径 6 x 1 "或3 x 2 "

5.工业气体:氧气和氮气100 SCCM的mfc

6. 软件:Windows 7/Labview 2013

7. RHEED电子枪与软件:a.射柱电压:30keV;b.运行压力:500 mTorr/氧;c. RHEED屏幕/快门。d. CCD摄像机和数据采集软件



产品优势
独立的MAPLE PLD系统
有机和聚合物薄膜的沉积
在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源
Load-lockable衬底阶段
与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统
  • 分子束外延系统为一种在物理学、化学、材料科学领域应用的分析仪器。近十几年来在半导体工艺中发展起来的一项新技术

  • 分子束外延系统为一种在物理学、化学、材料科学领域应用的分析仪器。近十几年来在半导体工艺中发展起来的一项新技术

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