仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-直播- 视频

产品中心

当前位置:仪器网>产品中心> 深圳市科时达电子科技有限公司>镀膜沉积机> 原子层沉积系统>Beneq Transform® 沉积系统
收藏  

Beneq Transform® 沉积系统

立即扫码咨询

联系方式:0755-29852340

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

为您推荐

产品特点

Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。

详细介绍

Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。Beneq Transform™配置多个ALD工艺模块,以满足特定的晶圆产能要求,也可为应对不断增长的产量或新的ALD应用而进行升级。

兼容热法和等离子体增强ALD工艺模块

单片、批量、热法及等离子体增强功能集成在同一平台上。适用于广泛的高性能氧化物和氮化物。 为客户提供了灵活、可靠、高产能的ALD解决方案。

Beneq Transform™凭借灵活的自动化平台,热法和等离子体增强的ALD工艺模块集成在一个系统中的独特能力,在工艺制备中可满足最苛刻的薄膜沉积要求,并提供无与伦比的灵活性。

专为晶圆厂设计

工业标准的水平晶圆装载可实现即插即用的无缝集成。配备独特的预热模块,可减少数小时的等待时间,并将产能提升到一个全新的水平 。

SEMI 认证

完全符合 SEMI S2/S8 和 SECS/GEM 标准。为客户提供定制化服务,确保在批量生产中顺利过渡到 ALD 工艺。

Beneq Transform™ 是适用于电力电子、MEMS 和传感器、RF、LED、光子学和先进封装应用的一站式 ALD 解决方案。

设备
Transform®Transform® Lite
最大配置3 ALD modules & 1 pre-heater2 ALD modules & 1 pre-heater
预热YesYes
传输模块Brooks Mx600SSBrooks Mx400
冷却选项Built-inFacet-mounted
VCE 装载21
基底尺寸3", 4", 6" or 8"3", 4", 6" or 8"
基底材料Si, GaN-on-Si, GaAs, InP, SiC, GaN, LNO, SapphireSi, GaN-on-Si, GaAs, InP, SiC, GaN, LNO, Sapphire
最大配置尺寸3000 x 3000 x 2250 mm3000 x 1250 x 2250 mm


厂商推荐产品

在线留言

换一张?
取消