光刻配套试剂 显影液 去胶液 增粘剂

光刻配套试剂在半导体制造中的关键作用不容忽视。这些试剂与光刻胶协同工作，确保光刻工艺的顺利进行。显影液能精确显影光刻胶，形成电路图案；剥离液则用于清除剩余光刻胶，为后续步骤做好准备。增粘剂、TARC/BARC、TCM等材料，分别起到增强粘附性、减少反射、防水等作用，提高光刻工艺的精度。

随着技术进步和国家政策的支持，光刻配套试剂行业在我国的发展势头迅猛。这些试剂的质量和性能直接关系到半导体产品的质量和性能，因此，不断提升研发能力，实现国产化替代，对我国半导体产业的发展具有重要意义。

托托科技致力于为半导体制造及印刷行业提供全面的光刻配套试剂，包括显影液、去胶液和增粘剂等关键材料。

RZX-3038显影液

型号：RZX-3038

规格：4L/瓶

产品介绍：这是一种国产通用型光刻胶显影液，适用于S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多种光刻胶系列和型号。

MF-319显影液

型号：MF-319

规格：5L/瓶

产品介绍：进口光刻胶显影液，专为S1800 G2系列光刻胶设计。

AZ 400K显影液

型号：AZ 400K

规格：加仑/瓶

产品介绍：进口显影液，适用于AZ等多种光刻胶系列。

AZ 300 MIF Developer显影液

型号：AZ 300 MIF Developer

规格：20L/桶

产品介绍：用于显影AZ等多种光刻胶系列。

PGMEA显影液

型号：PGMEA

规格：4L/瓶

产品介绍：国产SU8光刻胶显影液。

SU-8 Developer显影液

型号：SU-8 Developer

规格：4L/瓶

产品介绍：进口显影液，专用于SU-8系列产品。

NMP 去胶液

型号：NMP

规格：4L/瓶

产品介绍：国产通用型去胶液，适用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等。

AZ 400T STRIPPER 去胶液

型号：AZ 400T STRIPPER

规格：加仑/瓶

产品介绍：进口去胶液，专为AZ系列产品设计。

remover 1165 去胶液

型号：remover 1165

规格：加仑/瓶

产品介绍：进口去胶液，适用于S1800 G2、SPR 220系列、PM等。

Remover PG 去胶液

型号：Remover PG

规格：4L/瓶

产品介绍：进口去胶液，适用于SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等系列。

HMDS 增粘剂

型号：HMDS

规格：1L/瓶；加仑/瓶

产品介绍：光刻胶增粘剂，通过旋涂或熏蒸方法使用，有效改善光刻胶与衬底的粘附性，适用于玻璃、石英等衬底。

托托科技的产品线涵盖了光刻工艺的各个环节，确保了半导体制造过程的顺利进行，同时也为印刷行业提供了高品质的解决方案。