托托科技微纳3D打印机PL-3D
对准套刻4D光刻 微纳3D打印机
上海普利生MP系列微纳3D打印机
3d打印机3D-Bioplotter® 生物打印系统
Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备
托托科技的织雀系列PL-3D微纳3D打印设备在微纳加工领域具有显著的优势和特点。
高精度光刻能力：
光学精度高达1微米，能够实现微纳结构的精细制造。
打印层厚小于5微米，确保三维结构在垂直方向上的高分辨率。
多精度模式：
设备支持多种精度模式的自由切换（1微米、2微米、5微米），适应不同加工需求。
材料适应性：
支持多种树脂和陶瓷材料的打印，适用于新材料开发和研究。
对准驳接打印功能：
支持在已有样品上进行对准驳接打印，特别适用于微纳3D打印与柔性电子器件结合的领域。
大幅面加工能力：
设备支持50毫米×50毫米×50毫米的加工尺寸，能够制造更大、更复杂的微纳结构。
制造效率和成本：
制造周期短、打印成本低，无需掩膜版或模具直接成型，显著提高了生产效率。
应用领域：
广泛应用于医疗卫生、精密工程、医疗器械、微电子器件等领域。
具备多精度镜头切换系统、自动化扫描聚焦功能，进一步提升了设备的灵活性和成型效果。
托托科技的织雀系列PL-3D微纳3D打印设备以其高精度、多材料适应性和高效制造能力，为微纳加工领域提供了强大的技术支持，适用于多种高精度要求的微纳结构制造应用。
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TTT-02-Kerr Microscope磁光克尔显微镜综合测试设备不仅是一台显微镜，更是一个集高分辨显微成像、多模式磁学激励、原位电学测量于一体的综合性研究平台，旨在为磁学与自旋电子学领域的尖端研究提供前所未有的强大工具。
托托科技的“神影MV-1000系列”3D显微镜，集成了白光干涉、景深融合和共聚焦三种测量模式，能够进行纳米级到毫米级尺度的表面形貌分析，包括粗糙度、台阶、面形轮廓、曲率等多种参数。
SU-8光刻胶是一种基于环氧树脂的负性光刻胶，其中“负性”意味着当光刻胶暴露于紫外线时，暴露部分会形成交联，而未被暴露的部分在显影过程中会被冲洗掉，其名字来源于其结构中的8个环氧基团，这些环氧基团可以交联形成最终结构。
托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和高效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。
织雀®系列超高精度3D光刻设备专为复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构的制造而设计，凭借其性能，成为微纳制造领域的理想选择。
苏州托托
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