原子层沉积ALD/BENEQ P400

                                   BENEQ原子层沉积系统

1. 产品概述：

   Beneq P400A 为以优化的批量大小涂覆不同类型的基材而设计 - 足够大以提供显着的容量，但又足够小以在批次和较短的循环时间内保持出色的均匀性。我们的客户将 P400A 用于光学镀膜和在玻璃或金属板上使用 ALD 的应用。
   

2.产品配置:

Beneq P400A 通常用于直径范围为 20 毫米至 300 毫米的基板批次。批量设置可针对特定零件、片材、晶圆或其他基板进行优化。

扁平基板的总批量大小可达 8米

设计和设置

让我们选择和设计佳的工具设置和原子层沉积工艺，以适应您的基材和应用。

P400A 的多功能设计使其易于在反应室和底物支架的不同设置之间切换。这意味着您可以使用相同的原子层沉积系统从研发顺利过渡到批量生产。Beneq 提供量身定制的应用开发以及试生产支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之进行测试。

厚膜叠层

用于厚膜堆叠 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。 大批量的厚膜堆叠需要大量的驱体，同时会产生大量的残留物和副产品。为了应对这些挑战，P400A 配备了高容量驱体源以及驱体灭活和过滤系统。

Beneq P400A 是 35+ 年工业生产发展的结果，拥有大批量 >1μm 厚膜堆叠，。

3.产品优势：

Beneq P400A 的温度范围从室温到 550°C，可轻松处理气体、液体和固体驱体，包括有毒、自燃和腐蚀性驱体材料。

维护更简单、频率更低。 沉积厚膜堆叠的原子层沉积工具通常需要每月清洁一次。P400A 的高容量泵管路过滤器使该工具即使在大批量生产中也能运行数月而无需维护。

由于需要冷却 ALD 反应室，更换 ALD 反应室可能需要一整天的时间，但 P400A 将时间缩短到几分钟。它的设计使操作员只需拉出反应室和其他需要清洁的部件。

避免因维护而造成不必要的停机时间。Beneq P400A 使用多个反应室，这些反应室在每次运行之间连续切换。这使您可以大限度地减少与维护相关的生产停机时间。

Beneq 有的预热器。我们可选的预热烤箱可缩短加热时间，进一步提高您的吞吐量。