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RIE反应离子刻蚀机

¥600000 (具体成交价以合同协议为准)
方瑞 PE-200RIE 广东 深圳 2026-04-22 09:43:09
售全国 入驻:1年 等级:认证 营业执照已审核
同款产品:半导体制造(1件)
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核心参数

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产品特点:

高精度和各向异性:能刻蚀出侧壁陡直、尺寸精确的图形;
良好的均匀性和重复性:适合大规模生产;
材料适用性广:通过不同气体组合,可以 刻蚀多种材料;
高选择比:可针对性的刻蚀特定材料而不损伤其他材料;
清洁:干法工艺,避免湿法刻蚀带来的清洗、废液处理问题

产品详情:

RIE反应离子刻蚀机是半导体制造及微纳加工领域中的核心设备,集中体现在纳米级结构加工、新型材料刻蚀、复杂器件制造和跨学科技术突破,其核心价值在于通过物理轰击与化学反应的协同控制,实现高精度、高选择性的材料去除,支撑半导体技术前沿探索与器件创新。

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