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光谱椭偏仪

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详细介绍

SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。
高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。1、采用高性能进口复合光源,光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)
2、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
3、支持系列配置灵活,可根据不同应用场景支持多功能模块化定制
4、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料

产品型号

SE-VM光谱椭偏仪

技术参数

1、自动化程度:手动变角

2、应用定位:通用型

3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱

4、分析光谱380-1000nm(可扩至210-1650nm)

5、单次测量时间:0.5-5s

6、重复性測量精度:0.01nm

7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200μm

8、入射角调节方式:手动变角

9、入射角范围:55-75°(5°步进),90°

10、找焦方式:手动找焦

11、Mapping行程:不支持

12、支持样件尺寸:ZD至180mm

可选配件

1

温控台


2

Mapping扩展模块


3

真空泵


4

透射吸附组件

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