Park NX-Mask 基于AFM的 EUV光罩修复及其他性能

用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术

首先，Park NX-Mask 利用其专有的非接触式 AFM 技术进行全方位扫描以确定缺陷位置。此技术安全高效。在全方位扫描过程中，Park NX-Mask 不仅能精 准计算缺陷数量并且定位缺陷位置，还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后，Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证，生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据，如表面粗糙度。