离子束刻蚀/沉积系统 EIS-200

200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、沉积等。

EIS-200原理：

利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点：

方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少

分辨率高

不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻

可控制蚀刻Taper角

可以设定多样的实验条件

NPD(纳米图案成膜单元)选项（如下图）

主要功能

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄

技术能力

应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

SiO2 on Si substrate

Diamond Substrate（金刚石）

Quartz (Mask)

Oriented PET film