详细信息
CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。
等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。
CIF推出CPCP-F系列粉体等离子清洗机主要通过内置带搅拌功能的石英转动样品瓶进行粉体样品处理，采用双浮子流量计气体输送控制，主要特点是专业、简单、经济实用、处理均匀、快速高效、动态清洗，无死角、无污染。
技术参数
型号 | CPCP-F | CPCP-Fplus |
舱体尺寸 | D200XΦ155mm | D200XΦ155mm |
舱体容积 | 3.8L | 3.8L |
石英转瓶尺寸 | Φ75xH120mm | Φ75xH120mm |
转瓶转速 | 1-15rpm/秒可调 | 1-15rpm/秒可调 |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
射频功率 | 10-300W可调 | 10-150W可调 |
气体控制 | 双浮子流量计 | |
产品尺寸 | L425xW420xH465mm | |
时间设定 | 1-99分59秒 | |
气体稳定时间 | 1分钟 | |
真空度 | 100pa以内 | |
激发方式 | 电容式 | |
报价：面议
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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子，通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜（ACF）的粘合性。
等离子去胶工艺拥有低污染颗粒，低成本大规模量产，高均匀性与高可复制性等工艺特征。
营业执照未审核
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沪公网安备 31011502008050号