供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

发生器频率可调，1、 等离子蚀刻 (中性主导) 2、 铝制腔体140*200*110mm（W*D*H） 3、 等离子发生器20~100KHz,功率 100W可调 4、 流量控制器(最大100sccm，最多3个通道)

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

10.5升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产，分析 (REM, TEM)，YL技术，灭菌，研究和开发部门，考古，纺织技术，塑料技术。

供应商：香港电子器材有限公司

PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领xian地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF推出的CPC系列生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，产品稳定，样品处理重复性一致性好。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

智能化控制，手动、自动两种工作模式。 自动匹配器。 美国Honeywell真空压力传感器。 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。 双路气体控制。 弧形电极板设计。 全系统不锈钢材质。 数字和浮子流量计可选。 免维护，无需任何耗材。 整机保修一年。

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内彻底清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。主要特点1、采用气体作为清洗介质，避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。2、可短时间内彻底清洗掉有机污染物。3

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为Φ8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0-100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。主要特点1、采用6″彩色触摸屏，可控制射频功率、清洗时间、气体流量、真空泵的开启等。2、内部配有0-500mm/min的质量流量计，可以精确地控制进气流量。技术参数1、电源：AC220V2、射频功率：最大10

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

德国Diener electronic成立于1993年，是世界低温等离子工业的，是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气（常压）等离子清洗机的高科技企业。 用途： Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点，主要适合于高科技生产单位的以下场合： 半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。 D

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果：PlasmaBeam清洗过的区域，喷水后没有残留水滴。更多应用请来电咨询：021-61552797底材：铝底材：塑料参数：型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20

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2.6 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ZEPTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术系列Zepto控制系统手动型PCCE 控制系统 (Microsoft Windows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.7~2.6L真空腔室圆形石英玻璃 (UHP)，配有盖子（大约Φ 105 mm, 长 200 mm 或

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。智能化控制，手动、自动两种工作模式。美国Honeywell真空压力传感器。美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，双路气体控制，弧形电极板设计。 全系统不锈钢材质，数字和浮子流量计可选，免维护，无需任何耗材，整机保修一年。

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PCE-3等离子清洗机使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染，在射频电源的作用下，最大去除速率为10nm/min。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。主要特点1、使用可调射频电源，可以设置低、中、高功率。2、桌上型设备，结构紧凑、操作安全、环境友好、低成本。技术参数1、输入电压：110V/220V、50Hz/60Hz （请提前选定），小于100W2、输出功率：13.56MHz 3、等离子直流电源：低功率设定680V，10mA，6.8W；中功率设定700V，15mA，1

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Pico 等离子设备能够以不同的形式进行整合，例如以模块系统的形式。在下文中您可以大致了解能够与 Pico 等离子系统一同使用的最常见的选装件。Pico 等离子系统主要应用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术规格，参数：系列Pico系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积4~15L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约Φ

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品牌概述20多年来Pink在真空技术领域以其优良的品质和精密性而著称。现今，PINK共有250位雇员为五大洲的客户提供先进的设备和系统。PINK分为两个事业部：PINK GmbH Vakuumtechnik 特殊真空部件和定制系统PINK GmbH Thermosysteme 为表面处理而设计的低压等离子体系统以及真空热处理系统应用领域智能卡电子工业玻璃光学器件金属工业微电子珠宝和手表业产品特点1. 先进微波技术2. 无电极等离子发生器和高密度自由基使料盒内部清洗处理达到高度一致性3. 定制等离子反应

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10.5升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产，分析 (REM, TEM)，YL技术，灭菌，研究和开发部门，考古，纺织技术，塑料技术。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子，通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜（ACF）的粘合性。

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品牌概述20多年来Pink在真空技术领域以其优良的品质和精密性而著称。现今，PINK共有250位雇员为五大洲的客户提供先进的设备和系统。PINK分为两个事业部：PINK GmbH Vakuumtechnik  特殊真空部件和定制系统PINK GmbH Thermosysteme  为表面处理而设计的低压等离子体系统以及真空热处理系统应用领域智能卡电子工业玻璃光学器件金属工业微电子珠宝和手表业产品特点1. 先进微波技术2. 无电极等离子发生器和高密度自由基使料盒内部清洗处理达到高度一致性

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PCE-3等离子清洗机的等离子腔体为Ø75mm×165mm的耐热玻璃腔体，输出功率6.8W、10.5W、18W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备，在射频电源的作用下，去除速率可达10nm/min。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。PCE-3等离子清洗机配有一个真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等保护气体，适用于对易氧化的物品

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EC-200是一款ZD功率可达2KW的电晕处理机，ZD处理宽度可达200mm，主要用于前级处理各种流延膜基材，本机放电电极采用陶瓷辊，除PE、PP、PEO等一般的塑料箔材外，也可用于铜箔铝箔等导电金属材质箔材的处理。设备运行时，利用高频率高电压在电极间产生电晕放电，并产生低温等离子体，对箔材表面进行极化改性，可用于材料改性、接枝、流延镀膜、油墨印刷等实验工艺中，提高基材表面粘附力，改善涂布质量。 产品名称 EC-200电晕处理机 产品型号 EC-200 主要参数

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转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计。在等离子体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，转瓶等离子清洗机可以高效率的处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变了传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。该机同样也可以处理非粉末的样品，实现了一机多用的功能。1、石英腔体可以以一定得速度旋转 2、可以对粉末样品进行等离子清洗 3、可以对块状或片状样品进行等离子清洗 产品名称 转瓶等离子清洗机 应用领域 样品表面清洁、活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、表面有机物

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GSL-1100X-PJF-(A)等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成，喷射的离子束流能在较低的温度和非真空条件下活化和清理材料表面（例如单晶片、光学元件、塑料等），且清理速度迅速，清理后的物品表面干净。使材料进行预先表面处理，为获得高质量的外延薄膜或使光学涂层得到显著的效果做准备工作。GSL-1100X-PJF-(A)等离子表面处理仪手持部分小巧轻便，便于户外使用进行携带。操作简单，且可随意控制清理被清理材料的任意位置。1、不需要真空环境，不需要腔室环

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GSL-1100X-PJF-A等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件的环境下活化和清理材料（如单晶片、光学元件、塑料等）表面杂质，且清理速度迅速。本机是为获得高质量的外延薄膜或光学涂层进行预先表面处理的合适的工具选择。GSL-1100X-PJF-A等离子表面处理仪具有一个样品台，将样品固定在样品台上后可进行X、Y、Z三个方向上一定范围内的连续移动清洗，且清洗过程中离子束不会发生抖动，清理后的样品表面质量均匀。1、

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 Ø8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0- 100W连续可调节，采用的射频为13.56MHz。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。PCE-8等离子清洗机配有一个直连式双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等保护气体，适用于对易氧

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内彻底清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。PCE-6V小型等离子清洗机的样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现对样品的离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。设备体积小，操作简单，应用广泛。1、采用气体作为清洗介质，避免了因液体清洗介质对被清

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL-1100X-PJF-A等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件的环境下，迅速活化和清理材料（如单晶片、光学元件、塑料等）表面杂质。本机是为获得高质量的外延薄膜或光学涂层，预先进行表面处理的**选择。主要特点1、高速处理物件表面，操作简单、安全。2、无需真空和腔室环境。3、小巧实用、成本低。4、重量轻、结构紧凑。5、已通过CE认证。技术参数1、电源：110/220V 50/60Hz <100W2、输出频率：

供应商：沈阳科晶自动化设备有限公司

GSL1100X-PJF等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成，喷射的离子束流能在较低的温度和非真空条件下迅速活化和清理材料表面（例如单晶片、光学元件、塑料等），使预先进行表面处理为获得高质量的外延薄膜或光学涂层得到显著的效果。主要特点1、不需要真空环境，不需要腔室环境，高速处理物件表面。2、采用手提式，可现场使用，且成本低。3、结构紧凑，重量轻。4、操作简单，安全可靠。5、以通过CE 认证。技术参数1、输入电源：110V/220V 50/60Hz <1

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速GX低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以GX率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

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piezobrush®PZ3高效便携式手持等离子体发生器piezobrush® PZ3 是一款小体积紧凑型手持等离子体发生器，适用于实验室开发以及小批量产品的研发和组装加工。piezobrush® PZ3的最大功耗为18瓦，凭借压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术®）可以产生温度低于50摄氏度的冷活性等离子体。PZ3的核心部件是来自TDK电子集团的CeraPlas™，用来产生常压冷活性等离子体

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

特点： ·适用于8”以下样品的处理 ·等离子蚀刻机，可实现快速且一致的样品表面刻蚀 ·全局的工艺气体通过气浴进气实现了均匀的气体分布 ·电极水冷确保了样品的温度不会偏高 ·工业Windows控制系统，多段程序控制功能，实现一键蚀刻功能 ·适合于研究院、高校、研发等使用，也可小批量生产