等离子清洗机

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

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CIF转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计！在等离于体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，CIF转瓶等离子清洗机应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

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CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

·PR500/510等离子灰化机 高频输出 50~500W,反应腔 Φ215×305mm  低温等离子·经典桶型。  PR500：手动控制 PR510：自动触摸屏控制 低温等离子的经典款非常具有历史性。采用自动协调功能及触摸屏操作（PR510）,提高了操作性及安全性,是一款小型紧凑型的等离子处理设备。 用途  ·去除光刻胶 ·部品清洗 ·界面活性处理 ·微研磨 ·硅晶圆，玻璃基板对应  特征  ·大口径（Φ215mm）石英反应腔 ·小型一体化设计 ·操作简单的触摸屏方式（PR510型）    规格  型号 PR500 PR510 模式 DP模式，桶型 控制部 高频输出功率 Max500W 频率 13.56MHz 同调方式 自动协调 反应部 反应腔 石英 Φ215×305mm 反应气体 2系统（O2／CF4） 控制 手动 触摸屏自动控制 配管材质 不锈钢、特氟龙 外形尺寸 W438×D520×H760mm 参照规格书 重量 约60kg 参照规格书 电源 单相AC100V 9A 三相AC200V 8A  

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从样品表面改质到清洗的小型台式等离子清洗机 用途 ●  高分子材料表面的官能基付与→粘合性、密着性提高。通   过氧化反应，在表面生成-OH，＞C=O，-COOH等官能   基（微量的水分及二氧化碳影响）。   同样在氮气等离子体中，氮原子被吸收在表面中，生   成-NH 2等官能基。 ●  硅晶圆蚀刻。 ●  材料表面改性（金属、聚合物、薄膜、陶瓷等）。 ●  石棉预处理（膜过滤灰化）。 ●  从电子设备到生化市场。 ●  低温灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。 ●  使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。 ●  表面有机物去除 特点 ●  RF为200 W的高性能输出类型（PR200）。 ●  由于是尺寸紧凑的台式机，很小的位置都可以安装。 ●  同步，自动调谐，操作简单（PR200）。 ●  等离子体反应器（灰化设备）（PR200）。 ●  同步、自动调谐（PR200）。 反应腔 ［例］石棉分析前处理 规格 型号 PR200 PR300 PR301 模式 DP模式，桶型 控制部 高频输出 Max300W 频率 13.56MHz 同调方式 手动2轴同调方式 反应部 反应腔 耐热玻璃 Φ100×160mm 超硬质玻璃 Φ64×160mm×3室 耐热玻璃 Φ118×160mm 反应气体 1系统（氧气）流量计 控制 手动密闭阀 自动减压、自动密闭阀 配管材质 不锈钢、特氟龙、铜、铜合金 不锈钢、特氟龙 外形尺寸 W350×D400×H500mm W438×D520×H556mm W438×D520×H630mm 重量 约10kg 约36kg 约34kg 电源 AC100V 15A AC100V 7A

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经济型、通过等离子化气体的活性作用对处理对象表面进行改质、清洗 特点 ● 经济型等离子清洗机。 ●  简单的等离子处理操作。 ● 无需高频使用申请。 值得期待的应用案例 ● 有机膜的去除（油，蜡等有机膜）。 ●  电子零件，光学零件和微小部件的清洗、电镀、涂层前处理。 ● 细菌的消毒等（通过氧自由基进行细胞膜的蚀刻或通过紫外线进行消毒）。 ● 高分子材料表面的官能基付与→ 粘合性，密着性提高。通过氧化反应，在表 面生成-OH, >C=O, -COOH等官能基（微量的水分及二氧化碳影响）； ●  电子零件，光学零件和微小部件的清洗、电镀、涂层前处理。 ● 细菌的消毒等（通过氧自由基进行细胞膜的蚀刻或通过紫外线进行消毒）。 同样，氮气等离子时，表面吸取氮原子生成-NH2官能基。 ● 提高各种聚合物的粘结性以及提高医科齿科材料的生物相容性等。 ● 通过处理培养皿可以在其上均匀涂抹培养基等。  ● 有机高分子材料的蚀刻。对于有机高分子氧气成为蚀刻气体，可以进行抗蚀剂的蚀刻。 ●  促进种子发芽等实验。 规格   型号 PM100 等离子发生源 低频高电压电源，输出约100W，周波数60KHz、输出电压10kV 电机构造 电容型 2分割 气体流量计 氧气用、流量30～300mL/min 真空调整阀门 抽真空用，回大气用 反应腔尺寸 内径100mm×深度最大约200mm 外形尺寸（宽×深×高mm） 310×300×448 电源 50/60Hz AC100V 10A（含真空泵Max7A） 真空泵接口 外径Φ6.35mm（推荐真空泵排气速度30L/min） 气体接口 外径Φ6.35m

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PDC200/210/510等离子清洗机 高频输出 300W（PDC200型）/500W（PDC210/510型）,电极尺寸 250×170mm（PDC200/210型）/410×170mm（PDC510型）适用于研究开发的小型等离子清洗机。  使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应多种用途。  用途  ▪CSP、BGA、COB基板的等离子清洗 ▪去除有机膜和金属氧化膜 ▪印刷电路基板的干式清洗 ▪界面活性处理 ▪LED封装  特征 ▪DP模式（PDC510标配·PDC200/210选配） ▪RIE模式 ▪均匀性高的电极构造 ▪操作简单的触摸屏控制器    规格  型号 PDC200 PDC210 PDC510 等离子模式 RIE（DP模式选配） RIE/DP 电极构造 平行平板（固定） 高频输出 Max300W Max500W 频率 13.56MHz 控制·显示 液晶触摸屏 反应室尺寸 W400×D250×H150mm W500×D300×H200mm 电极尺寸 W250×D170mm W400×D200mm 反应室材质 铝 反应气体 2系统（Ar、O2） 填充气体 N2或干燥空气 反应气体流量控制 流量计 聚合控制器 真空泵 另行选配 油泵（约345L/分）标配 油泵（约500L/分）标配 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个 外形尺寸 W540×D600×H600mm W540×D600×H600mm W700×D700×H1285mm 重量 约100kg 约105kg 约180kg 电源 单相 AC100V 10A 三相AC200V 6A 三相AC200V 8A    

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13.56MHz高频输出的等离子清洗机，搭载RIE·DP双模式 使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应 多种用途。 特征 ●  可变更电极构造提高等离子效果。 ●  搭载高精度适配器，高性能RF 电源。 ●  可根据需求规格提供定制。 用途 ●  硅晶圆的灰化及蚀刻 ●  基板表面污垢处理 ●  IC/LED封装、BGA/CSP基板处理 ●  半导体相关部品的电子材料的干式清洗 ●  自然氧化膜·有机物去除 ●  界面活性处理 ●  表面污染物去除 内槽 规格 型号 V1000 V1000X V1000XS 等离子模式 DP/RIE 高频电源 13.56MHz 输出功率 Max1000W Max1000 & 1500W 有效电极尺寸 W280×D280mm W300×D300mm W400×D375mm 电极 平行平板 2段电极（独立） 平板（多目的） 反应气体 聚合控制器2系统（填充气路另行安装） 真空泵（标配） 约1000L/min 约1500L/min 1000 & 1500L/min 安全装置 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等 管路连接图

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小型、多段式等离子清洗机 用途 ●  提高各种材料的粘接性、表面改质处理 ●  灰化、蚀刻处理 ●  塑料封装前处理 ●  印刷基板镀层前处理 ●  LED关联部品处理 ●  电子部品清洗 ●  光刻胶剥离或表面残留物去除 ●  光学、金属、机械部品等精密部件的清洗 ●  包含氟化树脂的树脂类产品表面改质 ●  FCC对应 特征 ●  600W的小型高输出功率 ●  电极可选择1·2·3段（采购时指定） ●  可处理纵型的试料收纳盒 ●  可选择RIE/DP模式（采购时指定） ●  数据记录器（选配） ●  适配点记忆功能（选配） 规格 型号 PDC610 等离子模式 RIE/DP（固定模式） 电极构造 3段独立平行平板（固定） 高频输出 Max600W 频率 13.56MHz 控制·显示方式 PLC·触摸屏 反应腔尺寸 W350×D270×H300mm 反应腔材质 A5052 反应气体 2系统（Ar、O2） 填充气体 N2或干燥空气 真空泵 油泵（约345L/分）·标配 外形尺寸 W600×D722×H700mm 外装材质 不锈钢 电源 3相 AC200 50/60Hz 15A

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样品传输系统为模块式，便于组合 用途 ●  提高各种材料的粘接性、表面改质处理 ●  清洗各类基板。 ●  电子部品、材料表面改质。 ●  去除有机物和自然氧化膜。 特点 ●  体积小，节省空间。 ●  选用小型腔体，反应效率高。 ●  更容易嵌入生产线使用。 ●  可通过操作面板自由切换等离子模式。 ●  配备冷却反应台。 内槽 技术规格 型号 YSP600U YSP2KU 模式 RIE（DP模式选购） 高频输功率 600W 2000W 反应台尺寸 W300×D300mm W600×D600mm 反应气体 2进气系统（氧气、氩气） 反应气体流量控制 质量流量控制器 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个、空气1个

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可进行样品传输系统定制 ●  操作快捷方便：放入样品收纳盒、自动处理、取出收纳盒。 ●  软性基板也可以进行传送操作。 ●  传送速度可在Hi-Low间调节。 ●  可通过网络进行远程操作（选购品）。 规格  型号 YSP63FA 模式 RIE（DP模式选购） 高频输功率 600W 反应台尺寸 W385×D362mm 内腔尺寸 W395×D378×H45mm（内尺寸） 反应气体 2进气系统（氧气、氩气） 反应气体流量控制 质量流量控制器 真空泵 旋转式真空泵（约500L/min） 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个、空气1个 外形尺寸 W1860×D1100×H1800mm

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智能化控制，手动、自动两种工作模式。 自动匹配器。 美国Honeywell真空压力传感器。 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。 双路气体控制。 弧形电极板设计。 全系统不锈钢材质。 数字和浮子流量计可选。 免维护，无需任何耗材。 整机保修一年。

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CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

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CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

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CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。

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CIF 透射电镜（TEM）样品杆真空存储站仪用无油隔膜泵，通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境，特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除，简单方便实用。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

德国Diener electronic成立于1993年，是世界低温等高子工业的领导者。是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气(常压)等离子清洗机的高科技企业。用途:Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点,主要适合于高科技生产单位的以下场合:半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。Diener等离子清洗/刻蚀机具有以下特点:可以更灵活地操作，简便地改变处理气体的种类和处理程序；不会对操作人员的身体造成任何伤害；其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。Femto等离子系统能够以不同的形式进行整合，例如以模块系统的形式。Femto 等离子系统主要应用于以下领域:分析考古汽车行业研究和开发部门半导体技术小批量生产塑料技术医疗技术微系统技术传感器灭菌纺织技术

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Pico等离子系统能够以不同的形式进行整合，例如以模块系统的形式。Pico 等离子系统主要应用于以下领域:分析考古汽车行业研究和开发部门半导体技术小批量生产塑料技术医疗技术微系统技术传感器灭菌纺织技术技术参数

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技术参数系列Nano系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积18~36L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约 Φ 267 mm, 长 420 mm 或者长 600 mm）或者矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 240 mm x 高 240 mm x 深 420 mm 或者 600 mm）配有盖子的圆形铝材，或者配有铰链的门（大约Φ  240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ 240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形硼硅玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ  240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）电极单层或多层RIE样品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 300 W；0 -1000 W13.56 MHz: 功率 0 - 100 W；0 - 300 W2.45 GHz: 功率 0 - 600 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵规格和制造商均各有不同（按照活性炭过滤器的需要）电源台式设备为 230 V，立式设备为 400 V/3 相位 

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德国 PVA TePla 等离子清洗机IoN 100 WB等离子清洗机可以迅速快捷的更换不同类型的电极结构。

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德国 PVA TePla 等离子清洗机IoN 40，灵活的电极设计保证了工艺的均匀性

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德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子，通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜（ACF）的粘合性。

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德国 PVA TePla等离子清洗机80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus，有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。

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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrich PDC-MG 高集成度等离子清洗机，是一款超清洗设备, 采用气体作为清洗介质，在短时间内能完全彻底地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达到分子级。它具有性价比高、性能稳定、清洗效率高、操作方便、使用成本极低、易于维护等诸多优点。

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Diener Bell Jar 35 研究型等离子清洗机，是一种研究设备，其专为科学试验所研发。该设备即适用于热蒸发，溅射 ，电子束蒸发，SEM（扫描电子显微镜）样品制备的金属涂层，也适用于传统的等离子体工艺。

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Diener ATTO 手动型等离子清洗机

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德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。

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Diener Femto 等离子清洗机

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Diener Zepto 等离子清洗机

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Diener Pico 等离子清洗机

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Diener Nano等离子清洗机

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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrich PDC-MG 高集成度等离子清洗机，是一款超清洗设备, 采用气体作为清洗介质，在短时间内能完全彻底地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达到分子级。它具有性价比高、性能稳定、清洗效率高、操作方便、使用成本极低、易于维护等诸多优点。