供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

10.5升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产，分析 (REM, TEM)，医疗技术，灭菌，研究和开发部门，考古，纺织技术，塑料技术。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

供应商：北京燕京电子有限公司

CUTE系列等离子清洗机来自韩国Femto Science公司，是一款无损伤的等离子体处理表面处理系统，其独特的设计保证了高度稳定和均匀辉光放电等离子体产生，可应用于微流控、组织工程、石墨烯、2D材料等纳米科学以及微电子领域，适用于诸多材料表面清洁、疏水性增强、层间粘附、刻蚀等操作，标配一路自动气体流量计，可实现对工艺气体的精确控制。 CUTE系列等离子清洗机，其舱体采用铝合金制作，坚固耐用且抗腐蚀，其舱体自带显示屏，配合显示屏下方的操作按钮，使用简单，方便快捷。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计！在等离于体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，CIF转瓶等离子清洗机应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

智能化控制，手动、自动两种工作模式。 自动匹配器。 美国Honeywell真空压力传感器。 美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计。 双路气体控制。 弧形电极板设计。 全系统不锈钢材质。 数字和浮子流量计可选。 免维护，无需任何耗材。 整机保修一年。

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

品牌概述20多年来Pink在真空技术领域以其优良的品质和精密性而著称。现今，PINK共有250位雇员为五大洲的客户提供先进的设备和系统。PINK分为两个事业部：PINK GmbH Vakuumtechnik 特殊真空部件和定制系统PINK GmbH Thermosysteme 为表面处理而设计的低压等离子体系统以及真空热处理系统应用领域智能卡电子工业玻璃光学器件金属工业微电子珠宝和手表业产品特点1. 先进微波技术2. 无电极等离子发生器和高密度自由基使料盒内部清洗处理达到高度一致性3. 定制等离子反应器4. 气体输入和泵速的控制5. 离子密度高，一致性好6. 在线兼容7. 优化加工条件技术参数设备尺寸(W x D x H): 640 x 710 x 710 mm腔体尺寸(W x D x H): 170 x 200 x 170 mm等离子激发频率:微波 (2.45 GHz)微波功率: 50-300 WMFC(质量流量计)控制气路: 标准一路,可额外增加" c" p5 Z% N+ z

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

品牌概述20多年来Pink在真空技术领域以其优良的品质和精密性而著称。现今，PINK共有250位雇员为五大洲的客户提供先进的设备和系统。PINK分为两个事业部：PINK GmbH Vakuumtechnik  特殊真空部件和定制系统PINK GmbH Thermosysteme  为表面处理而设计的低压等离子体系统以及真空热处理系统应用领域智能卡电子工业玻璃光学器件金属工业微电子珠宝和手表业产品特点1. 先进微波技术2. 无电极等离子发生器和高密度自由基使料盒内部清洗处理达到高度一致性3. 定制等离子反应器4. 气体输入和泵速的控制5. 离子密度高，一致性好6. 在线兼容7. 优化加工条件技术参数设备尺寸(W x D x H): 630 x 900 x 1,850 mm腔体尺寸(W x D x H): 250 x 250 x 250 mm等离子体激发频率:微波 (2.45 GHz)微波功率: 100-600 WMFC质量流量计控制气路: 标准一路,可选配

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果：PlasmaBeam清洗过的区域，喷水后没有残留水滴。更多应用请来电咨询：021-61552797底材：铝底材：塑料参数：型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反应气休/冷却气体无油空压机无油空压机无油空压机气体压力5-8bar5-8bar5-8bar气体流量2m3/h2m3/h4m3/h离子束手柄单只直径32mm长度270mm重量0.6kg电缆长度3m，Φ19mm(可订制）处理的最大宽度为12mm两只其它参数同前操作模式手动控制/远程控制MS-Windows控制无有无电源AC230V/6A/50~60Hz尺寸（mm）W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

德国Diener electronic成立于1993年，是世界低温等离子工业的，是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气（常压）等离子清洗机的高科技企业。 用途： Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点，主要适合于高科技生产单位的以下场合： 半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有以下特点： 可以更灵活地操作，简便地改变处理气体的种类和处理程序；不会对操作人员的身体造成任何伤害；其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。 Femto A Femto C Femto D Femto B Femto E应用：表面清洁(e.g. before bonding, soldering or gluing)表面活化(e.g. before printing, varnishing or gluing)表面蚀刻(e.g. microstructuring of silicon or etching of PTFE)表面涂层(e.g. deposition of hydrophobic / hydrophilic layers)应用领域：REM, TEM考古汽车制造业橡胶制造业微机械制造传感器检测灭菌纺织业医疗器械制造业塑料制造业研发部门电子半导体行业规格、参数：系列Femto控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.9~6L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约 Φ 100 mm, 长 278 mm 或者长 600 mm）矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 103 x 深 285 x 高 103)配有盖子的圆形铝材，或者配有铰链的门（大约Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约 Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm）配有盖子的硼硅玻璃 (UHP) 或者配有铰链的门（大约Φ 95 mm，长 280 mm 或者长 600 mm）电极单层或多层RIE样品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 100 W；0 - 1000 W13.56 MHz；功率 0 - 50 W；0 - 300 W12.45 GHz: 功率 0 - 100 W；0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源供电电源： 台式设备为 230 V，立式设备为 400 V/3 相位

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

2.6 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ZEPTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术系列Zepto控制系统手动型PCCE 控制系统 (Microsoft Windows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.7~2.6L真空腔室圆形石英玻璃 (UHP)，配有盖子（大约Φ 105 mm, 长 200 mm 或者长 300 mm）圆形硼硅玻璃 (UHP)，配有盖子（大约Φ105 mm, 长 200 mm 或者长 300 mm）电极单层或多层样品支架铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计Pirani计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 100 W13.56 MHz: 功率 0 - 50 W真空泵KASHIYAMA其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装，包括培训。可应要求提供的其他选项。

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

Pico 等离子设备能够以不同的形式进行整合，例如以模块系统的形式。在下文中您可以大致了解能够与 Pico 等离子系统一同使用的最常见的选装件。Pico 等离子系统主要应用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术规格，参数：系列Pico系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积4~15L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约Φ 150 mm, 长 320 mm 或者长 600 mm）或者矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或者 600 mm）配有盖子的圆形铝材，或者配有铰链的门（大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形硼硅玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm）电极单层或多层RIE样品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 200 W；0 -1000 W13.56 MHz: 功率 0 - 50 W；0 - 100 W；0 - 300 W2.45 GHz: 功率 0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源台式设备为 230 V，立式设备为 400 V/3 相位其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装，包括培训。可应要求提供的其他选项。

供应商：天美（中国）科学仪器有限公司

等离子体样品清洗设备Evaction E50主要用于场发射扫描电镜样品和样品室内碳氢化合物、有机物和表面碳污染的清洗。

供应商：合肥康帕因设备技术有限公司

此设备具有性价比高、性能稳定、操作简便、成本低、便于操作维护的特点。

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

从样品表面改质到清洗的小型台式等离子清洗机 用途 ●  高分子材料表面的官能基付与→粘合性、密着性提高。通   过氧化反应，在表面生成-OH，＞C=O，-COOH等官能   基（微量的水分及二氧化碳影响）。   同样在氮气等离子体中，氮原子被吸收在表面中，生   成-NH 2等官能基。 ●  硅晶圆蚀刻。 ●  材料表面改性（金属、聚合物、薄膜、陶瓷等）。 ●  石棉预处理（膜过滤灰化）。 ●  从电子设备到生化市场。 ●  低温灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。 ●  使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。 ●  表面有机物去除 特点 ●  RF为200 W的高性能输出类型（PR200）。 ●  由于是尺寸紧凑的台式机，很小的位置都可以安装。 ●  同步，自动调谐，操作简单（PR200）。 ●  等离子体反应器（灰化设备）（PR200）。 ●  同步、自动调谐（PR200）。 反应腔 ［例］石棉分析前处理 规格 型号 PR200 PR300 PR301 模式 DP模式，桶型 控制部 高频输出 Max300W 频率 13.56MHz 同调方式 手动2轴同调方式 反应部 反应腔 耐热玻璃 Φ100×160mm 超硬质玻璃 Φ64×160mm×3室 耐热玻璃 Φ118×160mm 反应气体 1系统（氧气）流量计 控制 手动密闭阀 自动减压、自动密闭阀 配管材质 不锈钢、特氟龙、铜、铜合金 不锈钢、特氟龙 外形尺寸 W350×D400×H500mm W438×D520×H556mm W438×D520×H630mm 重量 约10kg 约36kg 约34kg 电源 AC100V 15A AC100V 7A

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

·PR500/510等离子灰化机 高频输出 50~500W,反应腔 Φ215×305mm  低温等离子·经典桶型。  PR500：手动控制 PR510：自动触摸屏控制 低温等离子的经典款非常具有历史性。采用自动协调功能及触摸屏操作（PR510）,提高了操作性及安全性,是一款小型紧凑型的等离子处理设备。 用途  ·去除光刻胶 ·部品清洗 ·界面活性处理 ·微研磨 ·硅晶圆，玻璃基板对应  特征  ·大口径（Φ215mm）石英反应腔 ·小型一体化设计 ·操作简单的触摸屏方式（PR510型）    规格  型号 PR500 PR510 模式 DP模式，桶型 控制部 高频输出功率 Max500W 频率 13.56MHz 同调方式 自动协调 反应部 反应腔 石英 Φ215×305mm 反应气体 2系统（O2／CF4） 控制 手动 触摸屏自动控制 配管材质 不锈钢、特氟龙 外形尺寸 W438×D520×H760mm 参照规格书 重量 约60kg 参照规格书 电源 单相AC100V 9A 三相AC200V 8A  

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计！在等离于体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，CIF转瓶等离子清洗机应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

供应商：华仪行（北京）科技有限公司

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠，主要核心部件全部采用国际知名品牌。智能化控制，手动、自动两种工作模式。美国Honeywell真空压力传感器。美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，双路气体控制，弧形电极板设计。 全系统不锈钢材质，数字和浮子流量计可选，免维护，无需任何耗材，整机保修一年。

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。主要技术参数：PC控制软件RF发生器 0~3000W 脉冲模式腔体防腐处理，400*400*1500mm,240L腔体加热80℃带观察窗多路工艺气体通道，MFC控制 防腐处理HMDSO单体通道易燃易爆气体安全阀Gas Shower气浴电极设备外尺寸2000*600*1700mm进口真空泵组电压 3项400V

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

表面涂层：等离子体聚合

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

EcoClean是YES的一种小巧，高通量的下游等离子剥离/除渣解决方案，具有高蚀刻速率，并且对表面的损伤很小/可以忽略不计。最小化拥有成本，气体使用量和宝贵的工厂空间。

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

YES–G1000是并行电容性等离子系统，旨在提供最佳的等离子模式灵活性。

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

台式等离子剥离/除渣系统利用低频，下游和电容性等离子工艺。避免使用有毒的化学药品，以进行温和的“除垢”清洁以及强韧的光刻胶，聚酰亚胺和BCB的强力等离子体剥离。通过湿法工艺可获得更高的产量和可重复的结果。

供应商：上海迹亚国际商贸有限公司

HANIL HGT 2K-DIV搅拌去泡机功能：行星式高速搅拌1、通过缩短混合时间提高生产率2、混合各种粘度的原料（高粘度-低粘度）3、混合原料时，利用旋转力去除气泡4、无需叶轮，无需清洁5、纳米粉可以混合6、可以混合，同时保留材料的特性和功能特点：-由于混合时间短，提高了生产率-允许多种材料混合（高粘度-低粘度）-通过扭矩消除物料混合过程中的气泡-不使用叶轮，因此不需要清洁规格参数：1、容器尺寸：2kg x 22、最大转速 ：1000rpm3、杯体积 ：2L4、类型：独立，真空5、电源 ：220v,4.6kw,3p

供应商：北京欧波同光学技术有限公司

等离子清洗技术起源于约30年前的半导体行业,等离子清洗主要用于清洗样品表面的碳氢化合物.等离子清洗的关键要点在于：不能改变样品本身的化学组成;不能改变样品的结构特征;不能损伤样品表面.

供应商：香港电子器材有限公司

PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领xian地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 80 Plus全自动微波等离子清洗机的个别基板。适用嵌入式解决方案或独立的工具产品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革产量方面的业界新标准:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等离子系统事业部在2012年台湾SEMICON公布了下一代的片式处理等离子系统 (支持100x300mm的框架-高速等离子系统, 在产量方面树立了业界的新标准。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利, 对比与其他框架和基板片式处理等离子系统, 该设备是世界上**一个单腔体支持片尺寸转换, 运输和处理并提升了3倍UPH的设备。<该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前, 塑封前, 倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射频(RF)和微波(MW)技术, 各根据客户的需求提供**的工艺解决方案。在半导体微芯片封装中, 引线键合前通过等离子提高焊盘清洁度是必不可少的。通过等离子清洗, 球剪切力和线拉力的改善是非常显著的。等离子清洗和活化作用可应用于提高塑封料的粘合, 消除因为分层引起的收率损失。在倒装片工艺中, 底部填充前微波等离子清洗已经成为提高收率必不可少的工艺。先进的倒装片产品在市场中越来越重要, 微波等离子在处理芯片底部超小空隙上是无与伦比的。

供应商：香港电子器材有限公司

PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领xian地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

供应商：香港电子器材有限公司

PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领xian地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。PS 400微波等离子清洗系统400系列芯片载体清洗PS 400 IL微波等离子体系统的400系列芯片载体清洗PS 400 H2微波等离子体系统的400系列芯片载体与氢气发生器清洗

供应商：上海尔迪仪器科技有限公司

piezobrush®PZ3高效便携式手持等离子体发生器piezobrush® PZ3 是一款小体积紧凑型手持等离子体发生器，适用于实验室开发以及小批量产品的研发和组装加工。piezobrush® PZ3的最大功耗为18瓦，凭借压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术®）可以产生温度低于50摄氏度的冷活性等离子体。PZ3的核心部件是来自TDK电子集团的CeraPlas™，用来产生常压冷活性等离子体的高压放电组件。等离子体能高效加工活化材料表面，同时还可以杀菌消毒和祛除异味。 应用领域》 接合技术》 生产流程的开发和优化》 实验室的研发设备》 微生物、微流体以及食品生产》 医疗和牙科技术》 原型和样品模型制造》 小批量生产加工潜在用途》 各种基础材料表面的活化加工处理》 提高材料表面润湿性》 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺》 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理》 精细清洁》 杀菌消毒和祛除异味piezobrush®PZ3的技术参数供电电源：AC110-240/50-60Hz最大功耗：18W重量：110g产品组成：手持式设备带电源线，集成风扇音量：45dB等离子体温度：不超过50℃加工处理速度：5cm2/s加工处理距离：2–10mm加工处理宽度：5–29mm可替换模块为了取得**的加工处理效果，不同类型的材料表面需要使用相应的模块组件进行活化加工处理。我们目前为piezobrush®PZ3手持式等离子体发生器提供两种不同的可替换模块组件。piezobrush®PZ3所产生的冷活性等离子体是基于压电直接放电技术（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技术®）中的高强度电场放电形成的。因此，待处理材料表面的电导率是选择相应可替换模块组件的重要参考。标准模块近场模块标准模块是专门为非导电材料（例如塑料、陶瓷以及玻璃等）表面加工处理设计的。为了获得**的加工处理效果，推荐的使用距离为1–5毫米。如果加工材料表面产生不受控制的偏移或者翻转，等离子体加工设备将自动切断电源并关闭。在这种情况下，材料表面将会部分导电，因此后续的加工处理请使用近场模块进行操作。近场模块用于处理（部分）导电材料例如金属、碳纤维强化聚合物、铅玻璃以及导电塑料等。如果是带有导电涂层的材料或是产品中带有导电组件的情况下，也建议使用近场模块以获得**的加工处理效果。只有当近场模块足够接近待处理的导电材料表面时（也可以穿透所覆盖的薄绝缘涂层），才会激发点燃等离子体。当距离在几毫米的范围内，近场模块和待处理材料表面之间可以看见紫光，表明加工处理正在进行。系统会自动识别当前所使用的模块类型，并相应地调整加工处理参数。液晶显示为了更好的控制等离子体的各种加工处理过程，piezobrush® PZ3配备了一块液晶显示屏用来显示和调用各种不同的功能：过程控制：    》 秒表：用来测量时间    》 定时器：具有自动结束功能的定时功能    》 节拍器：在设定的加工处理间隔以后，会给予声音反馈功耗设置：多级可调的等离子体功率piezobrush®PZ2和piezobrush®PZ3的对比piezobrush® PZ3被认为是piezobrush® PZ2的后继产品。下表简单介绍了两个产品各自的优点。piezobrush®PZ2带内置电源的手持式设备可更换的喷嘴无法进行过程控制 piezobrush®PZ3·   带内置电源的手持式设备·   可更换的压电模块·   过程控制：秒表、定时器以及节拍器 110-240V/ 50-60Hz供电电源110-240V/ 50-60HzMax.30W功耗Max18W170g重量110g57dB噪音水平45 dB不超过50℃等离子体温度不超过50℃4cm2/s加工处理速度5cm2/s2–10mm使用距离2 – 10mm20mm最大使用宽度29mm标准、近场和混合喷嘴/模块标准、近场氩气、氦气和氮气工作气体/ 注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

可进行样品传输系统定制 ●  操作快捷方便：放入样品收纳盒、自动处理、取出收纳盒。 ●  软性基板也可以进行传送操作。 ●  传送速度可在Hi-Low间调节。 ●  可通过网络进行远程操作（选购品）。 规格  型号 YSP63FA 模式 RIE（DP模式选购） 高频输功率 600W 反应台尺寸 W385×D362mm 内腔尺寸 W395×D378×H45mm（内尺寸） 反应气体 2进气系统（氧气、氩气） 反应气体流量控制 质量流量控制器 真空泵 旋转式真空泵（约500L/min） 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个、空气1个 外形尺寸 W1860×D1100×H1800mm

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

样品传输系统为模块式，便于组合 用途 ●  提高各种材料的粘接性、表面改质处理 ●  清洗各类基板。 ●  电子部品、材料表面改质。 ●  去除有机物和自然氧化膜。 特点 ●  体积小，节省空间。 ●  选用小型腔体，反应效率高。 ●  更容易嵌入生产线使用。 ●  可通过操作面板自由切换等离子模式。 ●  配备冷却反应台。 内槽 技术规格 型号 YSP600U YSP2KU 模式 RIE（DP模式选购） 高频输功率 600W 2000W 反应台尺寸 W300×D300mm W600×D600mm 反应气体 2进气系统（氧气、氩气） 反应气体流量控制 质量流量控制器 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个、空气1个

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

小型、多段式等离子清洗机 用途 ●  提高各种材料的粘接性、表面改质处理 ●  灰化、蚀刻处理 ●  塑料封装前处理 ●  印刷基板镀层前处理 ●  LED关联部品处理 ●  电子部品清洗 ●  光刻胶剥离或表面残留物去除 ●  光学、金属、机械部品等精密部件的清洗 ●  包含氟化树脂的树脂类产品表面改质 ●  FCC对应 特征 ●  600W的小型高输出功率 ●  电极可选择1·2·3段（采购时指定） ●  可处理纵型的试料收纳盒 ●  可选择RIE/DP模式（采购时指定） ●  数据记录器（选配） ●  适配点记忆功能（选配） 规格 型号 PDC610 等离子模式 RIE/DP（固定模式） 电极构造 3段独立平行平板（固定） 高频输出 Max600W 频率 13.56MHz 控制·显示方式 PLC·触摸屏 反应腔尺寸 W350×D270×H300mm 反应腔材质 A5052 反应气体 2系统（Ar、O2） 填充气体 N2或干燥空气 真空泵 油泵（约345L/分）·标配 外形尺寸 W600×D722×H700mm 外装材质 不锈钢 电源 3相 AC200 50/60Hz 15A

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

13.56MHz高频输出的等离子清洗机，搭载RIE·DP双模式 使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应 多种用途。 特征 ●  可变更电极构造提高等离子效果。 ●  搭载高精度适配器，高性能RF 电源。 ●  可根据需求规格提供定制。 用途 ●  硅晶圆的灰化及蚀刻 ●  基板表面污垢处理 ●  IC/LED封装、BGA/CSP基板处理 ●  半导体相关部品的电子材料的干式清洗 ●  自然氧化膜·有机物去除 ●  界面活性处理 ●  表面污染物去除 内槽 规格 型号 V1000 V1000X V1000XS 等离子模式 DP/RIE 高频电源 13.56MHz 输出功率 Max1000W Max1000 & 1500W 有效电极尺寸 W280×D280mm W300×D300mm W400×D375mm 电极 平行平板 2段电极（独立） 平板（多目的） 反应气体 聚合控制器2系统（填充气路另行安装） 真空泵（标配） 约1000L/min 约1500L/min 1000 & 1500L/min 安全装置 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等 管路连接图

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

PDC200/210/510等离子清洗机 高频输出 300W（PDC200型）/500W（PDC210/510型）,电极尺寸 250×170mm（PDC200/210型）/410×170mm（PDC510型）适用于研究开发的小型等离子清洗机。  使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应多种用途。  用途  ▪CSP、BGA、COB基板的等离子清洗 ▪去除有机膜和金属氧化膜 ▪印刷电路基板的干式清洗 ▪界面活性处理 ▪LED封装  特征 ▪DP模式（PDC510标配·PDC200/210选配） ▪RIE模式 ▪均匀性高的电极构造 ▪操作简单的触摸屏控制器    规格  型号 PDC200 PDC210 PDC510 等离子模式 RIE（DP模式选配） RIE/DP 电极构造 平行平板（固定） 高频输出 Max300W Max500W 频率 13.56MHz 控制·显示 液晶触摸屏 反应室尺寸 W400×D250×H150mm W500×D300×H200mm 电极尺寸 W250×D170mm W400×D200mm 反应室材质 铝 反应气体 2系统（Ar、O2） 填充气体 N2或干燥空气 反应气体流量控制 流量计 聚合控制器 真空泵 另行选配 油泵（约345L/分）标配 油泵（约500L/分）标配 气体导入口 反应气体2个、填充气体1个 外形尺寸 W540×D600×H600mm W540×D600×H600mm W700×D700×H1285mm 重量 约100kg 约105kg 约180kg 电源 单相 AC100V 10A 三相AC200V 6A 三相AC200V 8A    

供应商：柜谷科技发展（上海）有限公司

经济型、通过等离子化气体的活性作用对处理对象表面进行改质、清洗 特点 ● 经济型等离子清洗机。 ●  简单的等离子处理操作。 ● 无需高频使用申请。 值得期待的应用案例 ● 有机膜的去除（油，蜡等有机膜）。 ●  电子零件，光学零件和微小部件的清洗、电镀、涂层前处理。 ● 细菌的消毒等（通过氧自由基进行细胞膜的蚀刻或通过紫外线进行消毒）。 ● 高分子材料表面的官能基付与→ 粘合性，密着性提高。通过氧化反应，在表 面生成-OH, >C=O, -COOH等官能基（微量的水分及二氧化碳影响）； ●  电子零件，光学零件和微小部件的清洗、电镀、涂层前处理。 ● 细菌的消毒等（通过氧自由基进行细胞膜的蚀刻或通过紫外线进行消毒）。 同样，氮气等离子时，表面吸取氮原子生成-NH2官能基。 ● 提高各种聚合物的粘结性以及提高医科齿科材料的生物相容性等。 ● 通过处理培养皿可以在其上均匀涂抹培养基等。  ● 有机高分子材料的蚀刻。对于有机高分子氧气成为蚀刻气体，可以进行抗蚀剂的蚀刻。 ●  促进种子发芽等实验。 规格   型号 PM100 等离子发生源 低频高电压电源，输出约100W，周波数60KHz、输出电压10kV 电机构造 电容型 2分割 气体流量计 氧气用、流量30～300mL/min 真空调整阀门 抽真空用，回大气用 反应腔尺寸 内径100mm×深度最大约200mm 外形尺寸（宽×深×高mm） 310×300×448 电源 50/60Hz AC100V 10A（含真空泵Max7A） 真空泵接口 外径Φ6.35mm（推荐真空泵排气速度30L/min） 气体接口 外径Φ6.35m