晶圆划片机Model 100是一款独特的设备,设计用于划分精密模具,例如GaAs和硅芯片。晶圆划片机Model 100非常灵活,使用划线和断裂顺序,使成品模具保持清洁,不受损坏。 在断开模式期间,当线性刀升高以沿着芯线断裂时,晶圆划片机Model 100使用聚酯薄膜来保持模具。薄膜可防止模具受到污染或压力。所有参数均由控制键盘设定,设备坚固耐用,无振动,操作简单,无需过多培训。
磨削头
• Z轴驱动,可调节角度
•可调节划线力从3gr到50gr; 恒重
•金刚石工具:可调节角度和旋转
•刀具偏置,十字准线
晶圆
•晶圆片直径3''
•晶粒尺寸:最小200μm,方形最大10mmx10mm
•晶圆厚度:100μm及以上
•手动旋转90度
•通过微米螺丝旋转对准
•X Y轴/分辨率1μm
•通过渐进式操纵杆控制运动
视觉系统
•光学放大倍率(1至4倍),与其他应用兼容
•校准:可编程区域/手动
•TFT监视器17'和CCD彩色高清摄像机
•目标发生器
•LED照明
断路器
•断路模式:操作员控制或自动
•断开模式:使用顶部聚脂薄膜表面和底部切割器
•聚酯薄膜:可清除以避免污染
•目标发生器
•LED照明
参数
•步骤指数
•Y划线速度从0.1至20 mm / sec
•划线长度可编程
•重复划线
•划线数量
•元件编号
•触地速度
•切割速度
技术规格
功率:100 / 230VAC,500watt
气压:70psi
真空:60%
尺寸:650x700x500mm(26''x28''x20'')
重量:70kgr。
报价:¥1
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报价:面议
已咨询983次半导体辅助设备
正常使用条件下可稳定保存 1 年:存放在干燥、新鲜、避光的地方。 与胺、硫醇和路易斯酸发生放热聚合。 远离热源。 危险的燃烧或分解产物:酸、醛、一氧化碳、磷/锑氧化物、氟化氢气体。
用于在电化学装置应用中通过丝网印刷或缝隙涂覆来沉积导电石墨层的多石墨浆料。 石墨/炭黑糊剂,用于在光伏应用中通过丝网印刷来沉积活性高导电性碳层。 低温可加工银浆,用于沉积集电器。
Cargille宝石折光仪液体的折射率n D = 1.810,在所有不含砷的液体中highest 。它与宝石折光仪一起广泛用作鉴定宝石的接触介质。这种淡黄色液体还可用于减少或消除宝石表面的眩光,从而有助于检查宝石内部是否有夹杂物和其他缺陷。 该液体装在琥珀色的玻璃瓶中。瓶盖的内侧附有一根玻璃涂药棒,设计用于输送小液滴。
SONO-CELL ®超声喷涂系统包括XYZ运动系统,Sonaer超声喷嘴,超声波发生器,恒定液体输送系统和空气控制。适用于纳米薄膜涂层,例如太阳能电池,燃料电池,玻璃涂层。zuida喷涂面积:500mm x 500mm。完全可编程,可控制薄膜涂层的所有功能。致电或发送电子邮件以获取更多信息和价格。有几个选项可用和自定义。
E3100大室临界点干燥机已成为行业标准,已有35年以上的历史,并且已在世界众多扫描电子显微镜(SEM)实验室中使用。E3100主要用于临界点干燥生物和地质标本,也可用于MEM,气凝胶和水凝胶的受控干燥。 E3100的设计 具有一个大的 水平压力室,其内径为63.5 毫米x长度为82毫米。该腔室具有用于控制温度的外部水套,并通过可移动的后门引入样品。腔室的前部装有直径为25 mm的窗口,可在临界点干燥过程中提供无可比拟的液位视图。
Quorum制造了一系列临界点干燥机,以满足电子显微镜(EM)和其他应用的需求。 Quorum临界点干燥仪(有时称为超临界干燥)是一种在扫描电子显微镜(SEM)中进行检查之前对生物组织进行脱水的既定方法。这项技术是由Polaron(Quorum的先驱者)于1971年S次引入的,用于制备SEM标本,而Quorum E3100 临界点干燥机仍然体现了包括水平腔室在内的原始设计理念 。
入门级Kakuhunter公转自转搅拦脱泡装置 搅拌脱泡机 SK-300SII 高机能入门级类型机能强化新型号(SK-300SII)登场! 可YZ搅拌发热「中间模式」 提高搅拌・分散力的「波动模式」
P300J电动手动探针台:电动手动探针台,300mm,-55到300℃ P300A半自动探针台:专为低电流、亚微米定位应用而设计,300mm,-55到300℃