渗源SYDRO实验室纯水系统。渗源SYDROZY纯水系统是由预处理系统、反渗透纯水系统、后处理系统、循环供水系统组成的多功能全自动装置。能保证设备的高效产水能力,而且在保证产水量的同时使得系统能长期、稳定、保质的运行,同时也符合渗源一直一来坚持的安全、人性化设计、一体化美观融入到产品中。
产品参数:
型号 | 渗源SYDRO-300L | 渗源SYDRO-500L | 渗源SYDRO-1000L | 渗源SYDRO-1500L | 渗源SYDRO-2000L | ||
源水要求 | 城市自来水TDS≤400PPM,水温5—45℃ | ||||||
制水量 | 300L/H | 500L/H | 1000L/H | 1500L/H | 2000L/H | ||
额定电压 | 380VAC/50Hz | ||||||
机房空间 | (考虑到水箱因量而定,空间需现场确认) | ||||||
RO纯水 | 电导率 ≤5µS/cm (在线监测) | ||||||
纯化水电导率 | ≤2.1µs/cm @25℃(药典2015版标准标准) | ||||||
微生物 | ≤1cfu/ml | ||||||
微颗粒物 | ≤1个/ml | ||||||
重金属离子 | ≤0.1ppb | ||||||
吸光度(254nm,1cm光程) | ≤0.001 | ||||||
可溶性硅 | ≤0.01mg/L | ||||||
产水pH值 | 6.5-8.5 | ||||||
工作压力 | ≤2.0Mpa | ||||||
适用范围 | 普通生化实验、消毒供应室、精细化学品、食品饮料工业用水、电镀涂装、内镜清洗、生物医药、医疗器械、实验室动物SPF无菌饮用水 | ||||||
渗源SYDROZY纯水系统设备性能:
1.源水预处理装置,多介质过滤器、活性炭过滤器、软化过滤器多路阀系统全自动控制无需人工操作;
2.反渗透膜:美国陶氏膜4040膜,含化学清洗装置;
3.水箱配置:无菌水箱,有效的保证纯水水质,水箱内需采用浸没式紫外杀菌,以保证水质,防止微生物滋生,水箱必须配置CJ空气呼吸滤器;
4.源水低压、缺水自动保护功能、自动反冲洗功能、水质电导率在线监测功能;
5.开机18秒反渗透膜全自动冲洗、开机时18秒系统全自动冲洗;
6.含液位控制器,控制为常规类液位连锁硬件控制,水箱满水系统自动保护;
7.独特的西门子PLC系列控制系统、智能真彩色触幕屏PLC液晶显示器,屏幕可全面控制系统各项功能部件,整机可以设置密码;
8.一体化主机操作屏需显示反渗透水质电导率及水温,水箱储水容量,可设置循环水循环时间;
9.整体输送系统采用变频循环、管路需采用渗源SYKB管道式杀菌系统,定期对管道内细菌进行杀灭清除,以保证水质不受管路内壁滋生细菌影响;
10.核心配件使用美国陶氏反渗透膜、南方泵、西门子;
友情提示:
1、本产品制水量是指RO膜在25℃时的额定制水量,水温每降低1℃,RO膜的产水量下降约3%。当水温低于5℃ 时RO膜停止产水,用户选型订购时应考虑到所在区域冬季水温下降的因素。
2、 源水总溶解固性物质TDS>200ppm,RO纯水水质可能降低至电导率10us/cm以上;水质要求较高用户建议选型加前置软水器过滤系统。
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在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统,它根据原水的水质情况,对原水进行脱盐处理,由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高,所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术,搭配业内的EDI设备,混床技术,使得产生水质可达到18.25MΩ•cm,水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料,而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量,所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗,通过清洗去除掉表面的污染杂质,包括有机物和无机物等,否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术,搭配GX的自动化控制系统,有效的保障了设备的稳定性,而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验,普通定性定量分析实验,还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目,在源水水质较差的工况下,RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm,与单级RO系统相比,产水质量更好,设计合理,安装维护更加便利。