设备性能 安全保障：手动及自动清洗预处理；缺水、断电自动保护、纯化柱、超纯化柱更换提醒；手动及自动循环灭菌；紫外灯工作状态时时监测。 其它性能：0～99分钟时间设定、定时定量取水、密码保护、液位自控 扩展功能：脚踏开关、活动取水臂实现远程取水、红外遥控。 技术参数及特点 工作条件：进水压力：1.0～5.0kg/cm2 温度：5~40℃ 配15G液位传感纯水储存系统。 电源：220V±10V/ 50Hz (功率：30~80W) |
产水量L/H： ≥20；
出水流速L/min：1.0~1.5；
终端过滤器孔径：0.1μm
★ 整机机采用的是核心双泵双膜制造的实验室超纯水制备的双极反渗透系统、保证了纯水的电导率稳定在1-5μs/cm。
自来水为源水，同时制取RO纯水（三级水）和UP超纯水（一级水）；
★ 独特的Seepagesource -SYZ7系列控制系统、智能屏幕LCD液晶显示器
★分流式自动反冲洗精密过滤器，滤除水中颗粒性杂质，是“红水”、“黑水”、“黄水”、“水垢”等问题克星
★应急取用设计，漏水自动报警、自动断水保护功能。
源水低压自动保护功能、独立前置自动反冲洗功能、水质电导率、电阻率在线监测功能；
UV配置：185nm和254nm双波长紫外消解仪
纯进口美国陶氏RO反渗透膜，保证纯水水质稳定，延长后级纯化柱和超纯化柱的寿命
★ 源水采用SYZ-ACP四级预处理装置，有效去除粒物质、铁、锰、余氯、钙、镁及吸附有机物、异味等
采用进口全封闭真空压力储水桶，有效的保证了纯水水质，避免了因储存带来二次污染、紫外照射、微生物滋长等。
终端过滤器孔径：0.1μm ★超纯水水质：水质符合国家实验室GB6682-2008、美国ASTM、NCCLS、CAP电阻率（电导率）：18．2MΩ.cm（0.054uS/cm）；微生物≤1cfu/ml、 微颗粒物≤1个/ml 、重金属离子≤0.1ppb、 总有机碳量: TOC﹤10ppb、 吸光度（254nm、1cm光程）≤0.001、可溶性硅≤0.01mg/L |
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在大规模的集成电路超纯水水质中，优先获得关注的水质指标为：电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等，这类物质会溶于水中，而在集成电路芯片的制造过程中，使用的水质中所含离子成分越多，则对产品的制造工艺的影响越大，使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统，它根据原水的水质情况，对原水进行脱盐处理，由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高，所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术，搭配业内的EDI设备，混床技术，使得产生水质可达到18.25MΩ•cm，水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料，而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量，所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗，通过清洗去除掉表面的污染杂质，包括有机物和无机物等，否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术，搭配GX的自动化控制系统，有效的保障了设备的稳定性，而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验，普通定性定量分析实验，还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目，在源水水质较差的工况下，RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm，与单级RO系统相比，产水质量更好，设计合理，安装维护更加便利。
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