一、基本参数;
1.1源水要求：城市自来水/地下水TDS≤200PPM，水压1.0—5.0kg/C㎡，水温5—45℃
1.2制水量：20L/H 25℃时（建议客户以日用6小时为计算量选择出水机型）
1.3主机尺寸：（高*宽*深）590*500*380、重量20kg-25kg
1.4电源功率：AC220V/50Hz，30W
1.5水箱配置：配5G压力水箱外置水箱
1.6 RO纯水 电导率: ≤2-8μs/cm (在线监测)
1.7水箱储水时1.8-2.0L/min
二、应用领域：
普通生化实验、教学实验室用水、取代单蒸馏水器用水、超纯水系统进水、玻璃器皿清洗、加湿器、高压灭菌设备等用水。
三、功能介绍：
3.1自来水为源水，制取RO纯水（三级水）
3.2独特的Seepage source -SYR系列控制系统、智能真彩色屏幕LCD液晶显示器
3.3源水低压自动保护功能、独立前置自动反冲洗功能、水质电导率在线监测功能
3.4配5G液位传感纯水储存系统；
3.5源水四级预处理装置，有效去除粒物质、铁、锰、余氯、钙、镁及吸附有机物、异味等
3.6工作电源220v/50HZ、电压波动±5%。
3.7采用进口全封闭真空压力储水桶，有效的保证了纯水水质，避免了因储存带来二次污染、紫外照射、微生物滋长等
3.8具有缺水低压系统自动提示及保护、水箱满水系统自动保护。另配备排水口避免液位传感器损坏时水箱溢水对实验室造成不良影响。
3.9开机18秒反渗透膜全自动冲洗、超标排放15秒系统全自动冲洗。
武汉渗源仪器设备有限公司
联系人：吕红安
电话：027-88864050 18981991948
传真：027-87571718
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在大规模的集成电路超纯水水质中，优先获得关注的水质指标为：电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等，这类物质会溶于水中，而在集成电路芯片的制造过程中，使用的水质中所含离子成分越多，则对产品的制造工艺的影响越大，使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统，它根据原水的水质情况，对原水进行脱盐处理，由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高，所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术，搭配业内的EDI设备，混床技术，使得产生水质可达到18.25MΩ•cm，水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料，而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量，所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗，通过清洗去除掉表面的污染杂质，包括有机物和无机物等，否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术，搭配GX的自动化控制系统，有效的保障了设备的稳定性，而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验，普通定性定量分析实验，还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目，在源水水质较差的工况下，RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm，与单级RO系统相比，产水质量更好，设计合理，安装维护更加便利。
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