渗源SHWOT R1系列超纯水机可直接接入市政自来水进行纯化，纯化后的水符合GB/T6682-2008的国内实验室用水，外观机壳一体铸成，使得设备的稳定性得到了很大的提升，有效的避免了装配过程中出现的误差影响后续试验数据。
型号 | 渗源SHWOT R1 |
源水要求 | 市政自来水TDS≤200PPM，水压1.0—5.0kg/C㎡，水温5-45℃ |
主机尺寸 | （高*宽*深）1430*525*570（mm）、重量80kg |
电源功率 | AC220V/50Hz （功率50-100W） |
水箱配置 | （可选规格） |
水箱储满水时取水速度 | 1.8-2.0L/min |
RO纯水 | 电导率 ≤1-5µs/cm (在线监测) |
适用范围 | 普通生化实验、教学实验室用水，取代单蒸馏水器用水、超纯水系统进水、玻璃器皿的清洗、加温器/高压灭菌设备用水 |
渗源SHWOT R1超纯水机设备性能：
1.取水可以做到手动，定时、定量等，可以调节出水流速，可以标定时间进行产水，避免了在使用过程中的等待取水；
2.带有液晶显示器，可随时查看机器内部的各种数值，对于RO纯水电导率能做到实时监控；
3.储水箱采用全封闭真空压力技术，避免因存储带来的二次污染；
4.全自动压力传感器工作，RO膜自动防垢冲洗；
5.自来水缺水低压系统自动保护，储水桶满水自动停机；
6.落地式设计，底部设有活动、固定滑轮，安装移动都极其便利；
7.微电脑全自动控制，人性化操作显示系统，操作便捷能快速上手；
友情提示：
1、本产品制水量是指RO膜在25℃时的额定制水量，水温每降低1℃,RO膜的产水量下降约3%。当水温低于5℃ 时RO膜停止产水，用户选型订购时应考虑到所在区域冬季水温下降的因素。
2、 源水总溶解固性物质TDS＞200ppm，RO纯水水质可能降低至电导率10us/cm以上；水质要求较高用户建议选型加前置软水器过滤系统。
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在大规模的集成电路超纯水水质中，优先获得关注的水质指标为：电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等，这类物质会溶于水中，而在集成电路芯片的制造过程中，使用的水质中所含离子成分越多，则对产品的制造工艺的影响越大，使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统，它根据原水的水质情况，对原水进行脱盐处理，由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高，所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术，搭配业内的EDI设备，混床技术，使得产生水质可达到18.25MΩ•cm，水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料，而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量，所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗，通过清洗去除掉表面的污染杂质，包括有机物和无机物等，否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术，搭配GX的自动化控制系统，有效的保障了设备的稳定性，而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验，普通定性定量分析实验，还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目，在源水水质较差的工况下，RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm，与单级RO系统相比，产水质量更好，设计合理，安装维护更加便利。
营业执照已审核
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