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已咨询921次纯水设备处理器
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已咨询20540次超纯水系统
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已咨询854次超纯水
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已咨询1264次纯水设备处理器
在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统,它根据原水的水质情况,对原水进行脱盐处理,由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高,所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术,搭配业内的EDI设备,混床技术,使得产生水质可达到18.25MΩ•cm,水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料,而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量,所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗,通过清洗去除掉表面的污染杂质,包括有机物和无机物等,否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术,搭配GX的自动化控制系统,有效的保障了设备的稳定性,而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验,普通定性定量分析实验,还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目,在源水水质较差的工况下,RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm,与单级RO系统相比,产水质量更好,设计合理,安装维护更加便利。