一、参数;
1.1系统产水量: ≥500L/hr@25℃。系统除盐率:≥99.99%。
1.2 RO纯水 电导率: ≤1-5μs/cm (在线监测) @25℃。
1.3系统相关设备受液位联锁控制自动运行。
1.4源水要求:城市自来水/地下水TDS≤200PPM,最大工作压力:≤2.0Mpa,水温5—45℃
1.5工艺流程:多介质过滤器、活性碳过滤器、软化过滤、保安过滤器、反渗透装置、PLC控制装置、终端过滤器。
1.6预处理采用多路阀全自动控制。
1.7水箱配置:500L不锈钢水箱。
1.8反渗透膜:SWC5-4040美国海德能,含化学清洗装置。
1.9含水箱及液位控制器,控制为常规类液位连锁硬件控制。
1. 10质保1年以上,售后服务及时,备品配件供应及时。
二、电气连锁自动控制:
本系统的自动控制是通过PLC及电气连锁自动来实现, RO装置、水泵装置等整个系统均可实现自动启停操作,同时还可以通过各个水箱的高低液位来控制各单元设备的自动启停操作。系统使用触摸屏来进行监控。
三、功能介绍:
3.1源水低压自动保护功能、自动反冲洗功能、水质电导率、在线监测功能
3.2配液位传感纯水储存系统;
3.4独特的渗源Seepage source -SY7系列控制系统、智能真彩色触幕屏PLC液晶显示器。
3.5源水预处理装置,多介质过滤器、活性炭过滤器、软化过滤器多路阀系统全自动控制无需人工操作。
3.6 采用纯水不锈钢水箱,有效的保证了纯水水质。
3.7具有缺水低压系统自动提示及保护、水箱满水系统自动保护。
3.8开机18秒反渗透膜全自动冲洗、开机时18秒系统全自动冲洗。
单位重量:40公斤/套
发货日期:10天内
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在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。
电子行业超纯水系统是利用现在先进的电子技术进行提炼纯水系统,它根据原水的水质情况,对原水进行脱盐处理,由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高,所以我们公司的超纯水系统也是选择先进的反渗透技术,搭配业内的EDI设备,混床技术,使得产生水质可达到18.25MΩ•cm,水质可符合国内外用水标准。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料,而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量,所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗,通过清洗去除掉表面的污染杂质,包括有机物和无机物等,否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术,搭配GX的自动化控制系统,有效的保障了设备的稳定性,而且极大程度的节约了人力成本和维护成本
渗源SHWOT A实验室超纯水机可用于多项化学分析实验,普通定性定量分析实验,还可用于原子吸收、原子发射、紫外分光等多种实验项目,在源水水质较差的工况下,RO产水电导率同样可稳定在1-5μs/cm,与单级RO系统相比,产水质量更好,设计合理,安装维护更加便利。