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仪器/ 产品中心/ 光学仪器/ 电子光学仪器/ 电镜附件/ Gatan SOLARUS (950)Plasma Cleaning System等离子清洗仪
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Gatan SOLARUS (950)Plasma Cleaning System等离子清洗仪

  • 品牌:Gatan
  • 型号: SOLARUS (950)
  • 产地:美国
  • 供应商报价: 面议
  • 北京欧波同光学技术有限公司 更新时间:2024-04-22 09:41:37

    企业性质授权代理商

    入驻年限第5年

    营业执照已审核

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详细介绍

品牌: GATAN

型号:SOLARUS 950

制造商: GATAN公司

经销商:欧波同有限公司

产品综合介绍:

产品功能介绍

等离子清洗技术起源于约30年前的半导体行业,等离子清洗主要用于清洗样品表面的碳氢化合物.等离子清洗的关键要点在于:不能改变样品本身的化学组成;不能改变样品的结构特征;不能损伤样品表面.

SOLARUS - 全新先进等离子体清洗系统,去除碳氢化合物对TEMSEM样品台或样品的污染。Solarus是新一代等离子系统,其改造的新概念和zui*技术 令它具有更佳的性能,操作简便和良好的清洗效果。与市面上其他任何等离子清洗体系统相比,Solarus能提供最有效的清洗效果。

品牌介绍

美国GATAN公司成立于1964年并于70年代末进入ZG市场。GATAN公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。

作为世界领xian的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖全球的科研院所,高校,各类检测机构及大型工业企业实验室,并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。

经销商介绍

欧波同有限公司是ZG领xian的微纳米技术服务供应商,是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业,总部位于香港,分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、GATAN扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在ZG地区最重要的战略合作伙伴,公司秉承“打造国内影响力的仪器销售品牌”的经营理念,与蔡司,GATAN品牌强强联合,正在为数以万计的ZG用户提供高品质的产品与国际技术服务。

产品主要技术特点:

Solarus是一种独特的清洗解决方案,它利用等离子配方,对于所有的样品,包括Holey碳膜,都具有更快更彻底的清洗效果。该设备能安全地清洗掉表面沉积的污染物扩展了对已经被污染的样品的观察时间。采用分子泵搭配多级隔膜泵的真空系统可确保快速可靠的抽气效果。不到1分钟的抽气与放气时间,30--2分钟的清洗时间,整个过程不用2分钟。

使用等离子清洗的好处:

增强成像能力

提高元素分析的准确性

SEM中,延长EDXEBSD的观察和采集时间

可使用更小的束斑,这对于TEM/STEM中的STEMEELS分析非常重要。

相比于传统的等离子清洗仪,Solarus的主要优势:

1.)独特的H2/O2配方

2.)更快的清洗周期(不到2分钟)

3.)交互式的触摸屏设计

4.)提供7种经测试过的一键操作式配方

5.)2个用于装载侧插TEMSEM样品杆的前置装样口

6.)顶部装样口可装载多个(>25TEM微栅或者SEM样品台/样品

7.)自动匹配功率的射频源确保等离子源的长时间稳定

8.)精确的气体流量控制(质量流量计)

9.)最小损伤的清洗Holey碳膜

10.)支持多种语言(英语、中文、日语、韩文、法语、德语)

产品主要技术参数:

射频源: 50瓦的射频电源,具有功率自动匹配功能

真空系统:70/秒的分子泵搭配两级隔膜泵

气压: 5E-6 Torr基本压力,400mTorr工作压力

真空规:紧凑的皮拉尼规

舱室

l 两个前置接口能装载TEM适配器,用于装载侧插TEM样品杆和SEM样品杆

l 顶部入口用于放入SEM样品台,显微镜镜筒部件或者各种真空件

舱室尺寸为3.5”直径 x 2.0” 深度

l 前置观察窗能观察工作时的等离子体发光

l 内置的电磁阀将舱室与真空泵之间隔离开,抽真空时间不到1分钟,放气时间小于5秒。

气体控制:采用精确的质量流量计来测量及控制气体流量

气体种类:采用三路独立气体(H2O2Ar

清洗配方:提供包含有H2/O2配方等一系列配方,同时支持用户自定义配方

用户界面:采用交互式触摸屏,提供包含有中文、英文等多种语言界面

电源:通用电压/频率100VAC - 240VAC/50-60Hz/1000W

产品主要应用

去除碳氢化合物对TEMSEM样品台或样品的污染


碳膜被油滴污染


处理前,碳氢化合物污染 10min H2/O2配方清洗,污染消除,且没有样品本身损伤


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