适用于科学研究 无掩模光刻机

科研版无掩模光刻机

高灵活性、高精度、无掩模的优势，非常适用于科学研究。

ACA系列科研版无掩模光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易。ACA系列无掩模光刻机为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

ACA无掩模光刻机亮点：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无掩模光刻机

ACA Pro无掩模光刻机亮点：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无掩模光刻机

ACA Master无掩模光刻机亮点：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面积

扫描光刻/步进光刻 可切换

无掩模光刻机