Nanonex纳米压印系统NX-2500
产品特点:
1、 热塑化
2、 紫外固化
3、 热压与紫外压印同时进行
4、 热固化
5、气垫软压技术(ACP)
6、NanonexZG技术
7、 WM的整片基板纳米压印 均匀性
8、高通量
9、低于10nm分辨率
10、亚1微米对准精度
11、快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性
12、4″, 6″, or 8″压印面积可选择各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印
13、方便用户操作
14、基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作,Nanonex压印系统经过大量实时实地验证,质量可靠,性能优越稳定
15、全自动纳米压印
规格参数:
1、热塑压印模块
温度范围0~250oC
加热速度>300oC/分钟
制冷速度>150oC/分钟
压力范围0 ~ 3.8 MPa(550 psi)
2、紫外固化模块
200W窄带紫外光源
365纳米或395纳米波长可选
全自动化控制
3、对准模块
<1μm 3σ对准准确率
X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
4、模版装载功能
4″/5″/6″模版可用于标配纳米压印
5、系统
8”模板可升级
6、基板装载
标配纳米压印系统可装载4″基板
6″和8″基板可选
各种尺寸及不规则形状模板及基
7、板均可压印
独特ZG保护ACP技术可限
8、度保护基板和模板,特别对于象磷化铟(InP)等极易碎模板和 基板给予限度保护。
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电子增材打印设备是一种先进的增材制造设备,主要应用于显示、半导体封装、新能源锂电等行业,可打印具有电子功能的微纳米级特征结构,被视为增材制造领域的下一个前沿。「西湖未来智造」通用型电子增材打印平台,采用微纳墨水直写(DIW)增材打印技术,结合独创自研纳米级墨水材料,实现最小具有1~10 um特征尺寸的高性能金属导电材料、聚合物及复合介质材料的三维增材制造,可用于打印精密互联线路、微波天线、无源器件
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CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程等离子清洗源 设计,清洗快速、高效、低轰击损伤,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 体内碳氢化合物的清洗。
CIF 透射电镜(TEM)样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计,清洗快速高效, 低轰击损伤, 同时可实现常规等离子清洗。 主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。
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