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卓立汉光 显微分光膜厚仪OPTM 系列
- 品牌:卓立汉光
- 型号: OPTM 系列
- 产地:通州区
- 供应商报价: 面议
- 北京卓立汉光仪器有限公司 更新时间:2024-03-26 14:48:24
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企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品太阳能电池检测仪器(18件)
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- 详细介绍
- 产品概述
OPTM 系列显微分光膜厚仪
头部集成了薄膜厚度测量所需功能通过显微光谱法测量高精度jue对反射率(多层膜厚度,光学常数)1点1秒高速测量显微分光下广范围的光学系统(紫外至近红外)区域传感器的安全机制易于分析向导,初学者也能够进行光学常数分析独立测量头对应各种inline客制化需求支持各种自定义
OPTM 系列显微分光膜厚仪选型表
OPTM-A1 OPTM-A2 OPTM-A3 波長范围 230 ~ 800 nm 360 ~ 1100 nm 900 ~ 1600 nm 膜厚范围 1nm ~ 35μm 7nm ~ 49μm 16nm ~ 92μm 测定时间 1秒 / 1点 光斑大小 10μm (*小约5μm) 感光元件 CCD InGaAs 光源規格 氘灯+卤素灯 卤素灯 电源規格 AC100V±10V 750VA(自动样品台规格) 尺寸 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自动样品台规格之主体部分) 重量 约 55kg(自动样品台规格之主体部分) 测量项目:
jue对反射率测量多层膜解析光学常数分析(n:折射率,k:消光系数)测量示例:SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚测量
半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号,但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径,有必要隔离晶体管,埋入绝缘膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于绝缘膜。 SiO 2用作绝缘膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介电常数的绝缘膜,或是作为通过CMP去除SiO 2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。 为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制,有必要测量这些膜厚度。
- 产品优势
- OPTM 系列显微分光膜厚仪使用显微光谱法在微小区域内通过JD反射率进行测量,可进行高精度膜厚度/光学常数分析。
- 解决方案