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卓立汉光 显微分光膜厚仪OPTM 系列

联系方式:市场部138-10146393

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详细介绍

产品概述

OPTM 系列显微分光膜厚仪
头部集成了薄膜厚度测量所需功能
通过显微光谱法测量高精度jue对反射率(多层膜厚度,光学常数)
1点1秒高速测量
显微分光下广范围的光学系统(紫外至近红外)
区域传感器的安全机制
易于分析向导,初学者也能够进行光学常数分析
独立测量头对应各种inline客制化需求
支持各种自定义
 
OPTM 系列显微分光膜厚仪选型表
 
OPTM-A1OPTM-A2OPTM-A3
波長范围230 ~ 800 nm360 ~ 1100 nm900 ~ 1600 nm
膜厚范围1nm ~ 35μm7nm ~ 49μm16nm ~ 92μm
测定时间1秒 / 1点
光斑大小10μm (*小约5μm)
感光元件CCDInGaAs
光源規格氘灯+卤素灯  卤素灯
电源規格AC100V±10V 750VA(自动样品台规格)
尺寸555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自动样品台规格之主体部分)
重量约 55kg(自动样品台规格之主体部分)
 

测量项目:

jue对反射率测量
多层膜解析
光学常数分析(n:折射率,k:消光系数)

 

测量示例:SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚测量

半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号,但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径,有必要隔离晶体管,埋入绝缘膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于绝缘膜。 SiO 2用作绝缘膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介电常数的绝缘膜,或是作为通过CMP去除SiO 2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。 为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制,有必要测量这些膜厚度。

 


产品优势
OPTM 系列显微分光膜厚仪使用显微光谱法在微小区域内通过JD反射率进行测量,可进行高精度膜厚度/光学常数分析。
解决方案
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