供应商：优尼康科技有限公司

测量厚度从1nm到10mm的先进膜厚测量系统如果您正在寻找一款仪器，需要测量厚度、测量光学常数或者仅需要测量材料的反射率和穿透率，F20您值得拥有。仅仅几分钟内就可以安装好，通过USB与电脑连接，测量数据结果不到一分钟就能得到。

供应商：济南三泉中石实验仪器有限公司

塑料薄膜厚度测量仪 薄膜等包装材料厚度是否均匀一致，是检测薄膜各项性能的基础。薄膜厚度不均匀，不但会影响到薄膜各处的拉伸强度、阻隔性等，更会影响薄膜的后续加工。厚度测量仪适用于2mm范围内各种薄膜、复合膜、纸张、金属箔片等硬质和软质材料厚度精确测量。

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只需按下一个按钮，您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 。

供应商：滨松光子学商贸（中国）有限公司

C12562 纳米膜厚测量仪系列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波长范围（

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C11627-01 纳米膜厚测量仪系列C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作

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C11011-01W 微米膜厚测量仪C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆长工作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-0

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C11295 多点纳米膜厚测量仪C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！特性多达15点同时测量无参照物工作通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、

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TFMS-IV系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。1、光学薄膜测量解决方案 2、非接触、非破坏测量 3、覆盖单层到多层薄膜 4、核心算法覆盖薄膜到厚膜 5、配置灵活、支持定制化 6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围 7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便 8、基于薄膜层上界面与下界面的

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EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，结合先进的频率测量技术，进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中，用于对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。EQ-TM106膜厚监测仪根据制备薄膜的实时速率可以输出PWM（脉冲宽度调制）模拟量，作为膜厚传感器使用，与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制，从而检测所制备薄膜的厚度。EQ-TM106膜厚监测仪体积小巧可节省实验室空间，原理简单，操作方便，尤其适合于实验室中薄膜制备过程的使用。 1、本机可与计算

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SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪，是与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。1、非接触式测量，用光纤探头来接收反射光，不会破坏和污染薄膜； 2、测量速度快，测量时间为秒的量级； 3、可

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TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。 产品型号 TF200-VIS TF200-EXR TF200-DUV TF200-XNIR 主要特点 快

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ComBi-D3涂镀层测厚仪是一款磁性、涡流两用的便携式覆层测厚仪，它能快速、无损伤、精密地测量磁性金属基体(如钢、铁、合金和硬磁性钢等)上非磁性覆盖层的厚度(如锌、铝、铬、铜、橡胶、油漆等)，也可以用于非磁性金属基体(如铜、铝、锌、锡等)上非导电覆盖层的厚度(如:橡胶、油漆、塑料、阳极氧化膜等)的测量 ComBi-D3涂镀层测厚仪既可用于实验室中对样品表面的薄膜厚度的测量，也可用于工程现场，因其具有小巧、便携、测量JZ的特点而被广泛用于制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域。涂镀层测厚仪可对铁基

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TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪是一款利用反射光谱测试薄膜厚度的仪器，可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度而不损伤样品表面的薄膜，是一款无损测厚仪，其测量膜厚范围为15nm-50um，测量膜厚范围广，尤其适用于超薄薄膜厚度的测量。仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm，波长范围广，因此，测试薄膜厚度的范围广。TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪测试系统的理论基础为镜面光纤反射探头，该仪器尺寸小巧可节省实验室空间，操作方便，读数直观，方便于在实验室中摆放和使用。

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SKCH-1（A）精密测厚仪是一种结构简单、价格便宜、高精度的测量装置。实验室常用的测厚仪有指针型和数显型两种类型，指针型价格相对便宜，数显型读数直观灵敏，可根据个人使用习惯进行选择。SKCH-1（A）精密测厚仪主要用于各类材料厚度的精密测量，也可用于其它物品的高度与厚度的测量。测量时应注意为保证读数的准确无误，测厚仪的工作台一定要放到稳定的水平台面上。测厚仪结构简单，体积小巧，使用简单方便，是实验室中测量物品厚度的十分适合的量具1、采用精密花岗岩工作平台，精度等级为“00”级。 2、千分表精 度等级

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OPTM 系列显微分光膜厚仪使用显微光谱法在微小区域内通过JD反射率进行测量，可进行高精度膜厚度/光学常数分析。

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F10-AR 是为简便而经济有效地测试眼科减反涂层设计的仪器。 F10-AR 使线上操作人员经过几分钟的培训，就可以进行厚度测量。

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自动化薄膜厚度绘图系统Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度。一个电动R-Theta 平台可接受标准和客制化夹盘，样品直径可达450毫米。(耐用的平台在我们的量产系统能够执行数百万次的量测!)測绘圖案可以是极座標、矩形或线性的，您也可以创造自己的测绘方法，并且不受测量点数量的限制。內建数十种预定义的测绘圖案。

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动化薄膜厚度分布图案系统依靠F54光谱测量系统，可以很简单快速地获得直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台，可以非常快速的定位所需测试的点并测试厚度，测试非常快速，大约每秒能测试两点。系统中预设了许多极坐标形、方形和线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。只需掌握基本电脑技术便可在几分钟内建立自己需要的图形模式。

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测量厚度从1nm到10mm的先进膜厚测量系统如果您正在寻找一款仪器，需要测量厚度、测量光学常数或者仅需要测量材料的反射率和穿透率，F20您值得拥有。仅仅几分钟内就可以安装好，通过USB与电脑连接，测量数据结果不到一分钟就能得到。

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本产品的便携性使其可以在任何地方进行简单而高精度的测试和评估。其与EX-400&EX-86U准分子灯具备同样的工作表现，并专为R&D在线操作设计而成。因此，可直接将EX-mini中获得的评估结果用于在线操作任务中。

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带有内部电源的“一体机”式设计实现了紧凑、质量轻的结构，从而不需要选择特定空间，免去了安装上的麻烦，可以轻松地在生产现场进行设置。在线使用中的高通用性使得EX-86U十分容易装配入现有的线路、重新部署的生产线等。

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使用扁平长灯和RF（射频）放电可在大面积上均匀照射并减少闪烁，从而提供稳定的输出。 与电晕放电法，等离子体法，甚至其他准分子灯相比，EX-400可确保高精度，高质量的修改，清洁和粘合。

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C12570系列是孔洞检测装置，用于检测层压薄膜和金属箔中的孔洞。 由于采用非接触式光学检测，被检测的样品不会暴露在液体或特殊环境的压力中（例如电场、磁场和电解质溶液）。 C12570系列采用高灵敏度的光电倍增管，可以高精度地检测微小的孔洞。

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C11740是一种孔洞检测装置，专门用于检测罐中的孔洞，内部包含一个高灵敏度光学传感器（光电倍增管），可以高速，高精度地检测微小的孔洞。可测量参数包括一个大面积光敏区域和一个强光保护电路，该保护电路非常适合孔洞检测。 C11740外部控制输入/输出装置可以让操作者轻松地对在线检测和其他检测进行设置。

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C11011-01型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，与mapping工作台联用可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。 C11011-01可测玻璃膜厚范围分别为25 μm 到2200 μm 和 10 μm 到 900 μm.

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C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，与Mapping工作台联用可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。C11011-01W测量玻璃膜厚范围分别为25 μm 到 2900 μm 和10 μm 到1200 μm。

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C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。

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C13027型光学纳米膜厚测量系统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量系统。C13207不仅支持PLC连接，而且其设计尺寸比其他型号更紧凑，便于设备安装。Optical Gauge系列不仅能够测量10纳米以下极薄薄膜的厚度，而且还具有超宽测量范围，可以覆盖从10纳米到100微米的各种薄膜厚度。 Optical Gauge系列可以进行高达200 Hz的快速测量，因此非常适合高速生产线测量。

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C12562型光学纳米膜厚测量系统是一款小型紧凑、节省空间、安装方便的非接触式薄膜厚测量系统。在半导体工业中，硅通孔技术的普及使得硅厚度测量变得必不可少；在薄膜生产工业中，越来越高的产品需求使得粘合层薄膜的制作朝着越来越薄的方向发展。因此，这些工业领域需要更高精度、测量范围可以覆盖1μm到300μm的厚度测量系统。C12562可以对厚度范围从0.5μm到300μm的薄膜进行精确测量，包括薄膜镀层厚度和薄膜衬底厚度以及总厚度。C12562可以进行高达100 Hz的快速测量，因此非常适合高速生产线测量。

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C10178型光学纳米膜厚测量系统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量系统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。滨松的产品使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-02支持UV（200 nm至950 nm）。

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C10178型光学纳米膜厚测量系统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量系统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。C13027使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-03J支持NIR（900 nm至1650 nm）。

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C10178型光学纳米膜厚测量系统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量系统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。我们的产品使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-03E支持NIR（900 nm至1650 nm） (AC200 V to AC240 V, 50 Hz / 60 Hz)

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C11011-21型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理，测量速度达60Hz，适用于产品在线测量。此外，选配的作图系统可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。C11011-21可测玻璃膜厚范围分别为25 μm 到2200 μm 和10 μm 到 900 μm，可测层数zui多为10层。

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C11011-21W型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，与mapping工作台联用可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-21W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。 C11011-21W可测玻璃膜厚范围分别为25 μm 到2900 μm 和10 μm 到 1200 μm，可测层数zui多为10层。

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F3-sX家族利用光谱反射原理，可以测试众多半导体及电解层的厚度，可测zuida厚度达3毫米。此类厚膜，相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。

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C10178-01 纳米膜厚测量仪系列C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可