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德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL

品牌：德国Sentech
型号： SI ADL LL/ SI PEALD LL
产地：欧洲德国
供应商报价：￥5000000

深圳市蓝星宇电子科技有限公司更新时间：2025-04-27 09:57:23

销售范围售全国

入驻年限第7年

营业执照已审核

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产品特点

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C

详细介绍

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL

SI ALD LL..png

主要特点

· 在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度

· 高度均匀的多层堆叠的长期稳定沉积

· 真正的远程 CCP 等离子体源

· ALD 实时监控器

应用特点

· 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积

· OLED 的钝化

· 电子设备的钝化

技术特点

· 400/500°C 基板温度

· 300 W，13.56 MHz，CCP 等离子体源

· 4 个带截止阀的前驱体入口

· 直接绘制和起泡线

· 高达 200°C 的壁式加热

· 衬垫

· 560 m3/h 干泵

· 带开盖的装载锁

· 快速节流阀

· 最大 8 英寸晶圆

· 多达 7 条燃气管线

· TP、CCP阀、臭氧管路、手套箱，实时监控可选

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