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DRC-ICP-MS在半导体超纯材料分析中的应用

美国perkinelmer有限公司更新于：2004-07-26

应用行业：电子/电气/通讯/半导体半导体

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半导体工业的快速发展对超纯材料的分析提出了越来越高的要求，10年前SEMI要求达到10ppb的杂质水平检测就可以满足要求了，现在则必须达到100ppt（国际半导体设备与材料SEMI Grade 4），对H2O2HNO3HF等关键试剂则进一步要求达到SEMI Grade 5所规定的10ppt的水平这是传统的ICP-MS所无法做到的本文介绍了DRC-ICP-MS的基本原理及其在半导体工业的实际应用

内容节点: 概述; 实验/设备条件; 样品提取; 实验/操作方法; 实验结果/结论; 仪器/耗材清单

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