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戴安应用文献之－AN119半导体刻蚀酸中阴离子型氟化物表面

赛默飞色谱质谱及痕量元素分析更新于：2005-09-21

应用行业：电子/电气/通讯/半导体半导体

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全氟化表面活性剂在半导体酸蚀刻溶液中起润湿剂的作用酸蚀刻剂能够在二氧化硅材质上雕刻出细的划痕在半导体的制作中，如果酸蚀刻剂的润湿性不好可能有气泡生成，这些气泡会附着在刻蚀表面，影响信号可以通过增加少量的表面活性剂减少气泡的形成，从而提高溶液的润湿性

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