无掩模光刻 - 产品信息 - 相关知识

2025-11-24 16:04:08无掩模光刻: 无掩模光刻是一种先进的半导体制造技术，它无需传统光刻工艺中的物理掩模，而是利用直接写入的方式，将图案精确地刻在硅片上。该技术通过高精度激光或电子束等直接对硅片表面进行曝光，实现图案的快速、灵活制作。无掩模光刻具有分辨率高、制作周期短、成本低等优势，在微纳加工、集成电路制造等领域展现出广泛应用前景，特别是在定制化和小批量生产中更具优势。

无掩模光刻相关内容

全部
资讯
文章
产品
问答

无掩模光刻资讯

无掩模光刻文章

微纳加工领域的无掩模光刻技术研究

光刻作为一种精密微纳表面加工技术，已广泛应用于微电子学、二元光学、光子晶体、集成电路和纳米技术等领域。极紫外光刻是人类所能达到的精度最Z高的复杂结构微加工技术之一，但是随着微加工特征尺寸的不断缩小

 托托科技（苏州）有限公司 107
2025-10-11
无掩模光刻无掩模光刻技术无掩模光刻设备
DMD无掩模光刻系统在微纳制造中的新进展

微纳制造作为现代高新技术产业的核心基石，正不断向更高精度、更复杂三维结构及多功能集成的方向演进。在这一进程中，基于数字微镜器件（DMD）的无掩模光刻技术，凭借其无掩模、高灵活性、低成本的颠覆性优势。

托托科技（苏州）有限公司 117
2025-10-29
微纳制造无掩模光刻 DMD无掩模光刻
一款低成本的科研型无掩模光刻系统UTA-1A

无掩膜光刻机 UTA 系列为缩小投影型无掩模曝光系统，核心融合 DLP 投影仪与金相显微镜技术，兼具高精度图案投射与对位成像能力。设备价格远低于传统掩膜光刻的图案投影曝光系统。

北京欧屹科技有限公司 25
2026-01-23
无掩膜光刻机 UTA 无掩模光刻系统低成本UTA 无掩模光刻系统
掩模与无掩模光刻：核心技术原理与适用场景全解析

光刻技术作为半导体制造与微纳加工的核心工艺，其发展直接决定了集成电路的性能与集成度。在当今技术路线中，掩模光刻与无掩模光刻分别代表了高效率批量制造与高灵活性定制化生产的两大方向。

托托科技（苏州）有限公司 131
2025-11-24
无掩模光刻无掩模光刻机掩模版
轻松掌握光刻工艺：后烘

后烘，顾名思义，是在光刻胶曝光后，对光刻胶膜进行烘烤的过程。这一过程的主要目的是通过加热，使光刻胶中的化学反应进一步进行，从而实现光刻胶的固化和图案的清晰化。

托托科技（苏州）有限公司 177
2025-05-26
无掩模光刻光刻工艺光刻机

无掩模光刻产品

产品名称

所在地

价格

供应商

咨询

: 无掩模光刻系统Smart Printer UV; 国外欧洲; 面议; 筱晓（上海）光子技术有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统; 国外欧洲; 面议; 纳糯三维科技（上海）有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 桌面台式无掩模光刻系统电动 PALET DDB-701-DL; 国内上海; 面议; 筱晓（上海）光子技术有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 桌面台式无掩模光刻系统手动 PALET DDB-701-MS 筱晓光子; 国内上海; 面议; 筱晓（上海）光子技术有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 小型台式无掩膜光刻系统; 国外欧洲; 面议; 清砥量子科学仪器（北京）有限公司
售全国; 我要询价联系方式

无掩模光刻问答

2023-06-14 16:49:45无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究，意大利: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一种典型的二维材料，也是电子器件的重要组成部分。研究者发现，当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用，使之具有良好的电学特性，可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点，不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外，电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响，进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能，但这些研究主要基于理论计算，缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。【成果简介】 2021年，意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件，在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性，发现在n通道的跨导输运被抑制，这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版，可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便，同时其还具备结构紧凑（70cm X 70cm X 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：

2023-06-29 10:11:54无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究，意大利科学家揭秘其机理！: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一种典型的二维材料，也是电子器件的重要组成部分。研究者发现，当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用，使之具有良好的电学特性，可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点，不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外，电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响，进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能，但这些研究主要基于理论计算，缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。成果简介2021年，意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件，在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性，发现在n通道的跨导输运被抑制，这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版，可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便，同时其还具备结构紧凑（70cm X 70cm X 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：

2021-11-29 11:06:02Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头: Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头，大口本生(天津)健康科技有限公司：http://www.bunsen17.com/ 本生生物供应：光度计，检测仪，免疫仪，全系荧光定量PCR耗材，移液器，钻石吸嘴，离心管，冻存管，培养皿，培养板，培养瓶，吸头，仪器及手套，色谱耗材，针头过滤器。产品名称：Tip 10000ul吸嘴，无色，无DNA酶无RNA酶无热源，袋装非灭菌，大口产品规格：100支/包，10包/箱（1000支/箱）CG编号产品描述包装规格通用型移液器吸嘴，BASIX加长吸嘴23-2033 Tip 10000ul吸嘴，无色，无DNA酶无RNA酶无热源，袋装非灭菌，大口 100支/包，10包/箱（1000支/箱）Tip 10000ul吸嘴无DNA酶无RNA酶无热源吸头适应客户：医院检验科PCR实验室，实验室；第三方检测机构，科研院所，大专院校，制药厂，试剂生产厂家，疾控，检验检疫。

2022-07-23 13:08:19改用无目镜体视显微镜的7大理由: 1.更大的头部活动自由度从固定的头部姿势中获得解放当使用传统的体视显微镜时，使用者必须严格限制头部的活动，否则瞳孔和目镜之间错位，无法看清楚放大后的图像。由无目镜光学技术扩大的出射光瞳，无目镜体视显微镜令用户从固定的头部姿势中获得解放。操作人员可以任意左右移动头部，缓解头部固定姿势所造成的压力与疲劳，尤其是当用户长时间使用显微镜时。 2.保持舒适的身体姿势增强用户舒适度从而提高产能显微镜观测工作对操作者的骨骼提出了苛刻的要求。当操作人员感到不适或紧张时，观测准确性和工作效率都会受到影响。传统的显微镜操作人员必须保持一个不自然的、固定的身体姿势，以确保他们的眼睛与目镜保持一致。长时间保持一个固定姿势会导致身体疲劳，并可能导致严重的颈部和背部问题，以及其他更多健康问题。一项记录长期使用显微镜影响的研究发现，78%的传统显微镜操作人员伴有颈部疲劳*。这是由于头部长时间保持倾斜，比如与垂直方向成30度，导致了明显的肌肉收缩、疲劳和疼痛。 3.操作目标物时不易失焦增强手眼协调并易于操作目标物在普通显微镜下使用工具或操作目标物时，手眼协调总是一个巨大挑战。当使用传统显微镜时，手眼协调有时很困难，因为眼睛和目镜之间的距离很短，限制了周边视觉。使用无目镜显微镜系统的操作人员可以坐在离显微镜更远的地方，允许更大的周边视觉，因此提高了以更安全、更直观的方式使用手和操作工具的能力。 4.减少眼部压力及头痛减少眼部压力疲劳94%的显微镜使用者据报告有视力问题或眼部多重问题，包括头痛和眼睛干涩等。有三个主要原因可以解释为什么这么多显微镜使用者会有这种不适：数据来源:1. Thompson SK, Mason E, Dukes S，人体工程学和细胞技术学家：报告的肌肉骨骼不适。 Diagn Cytopathol.2003;29:364 – 367。 2. Garima Jain and Pushparaja Shetty，与经常使用显微镜有关的职业关切:《国际职业医学与环境卫生杂志》2014;27(4):591-598。 3. Fritzsche et al.; licensee BioMed Central Ltd. 2012。 5.可佩戴眼镜及护目镜视距及其如何影响佩戴眼镜的操作者眼镜佩戴者在使用传统目镜显微镜时可能会遇到困难，无法获得清晰无阻的视野。这是因为每只眼睛都必须对准目镜形成图像的位置。这个点被称为“出射光瞳”，通常直径在3毫米到5毫米之间，并不比正常光线下的瞳孔直径大多少。当出射光瞳完全覆盖眼睛瞳孔并毫无阻碍地保持在该位置时，才可以获得清晰的观察图像。大多数显微镜用户需要直接接触显微镜目镜，以保持正确的观察位置和保持图像在视线内。戴眼镜的用户，当他们的眼睛不能足够接近出射光瞳位置时，问题就出现了。这种情况下，图像聚焦，但视野受到限制，很难保持出射光瞳覆盖（或位于）瞳孔直径。此外，用户位置的轻微偏移可能导致视野中产生阴影。视距是操作员需要保持的与目镜之间的距离，以便使出射光瞳与自己的瞳孔对齐。出射光瞳越小，则为了清晰看到图像所需要保持的距离越小。需要佩戴眼镜的操作人员，至少需要18 – 20毫米的视距区域，以方便佩戴眼镜。无目镜体视显微镜扩大了出射光瞳直径，达38毫米。视距越大，留给佩戴眼镜或护目镜的空间就越大。 6.减少交叉感染将健康和安全作为优先事项如今，越来越多的公司把员工的健康和安全作为优先考虑的问题。与目镜显微镜相比，无目镜显微镜具有显著的健康益处。除了符合人机工学的优点外，无目镜体视显微镜在最大限度减少交叉污染方面也有明显的优势：使用者的眼睛与仪器设备没有接触，大大降低了共用设备带来的感染风险，佩戴防护目镜或面罩也不会限制使用及操作。适用于多用户之间共享使用，无目镜显微镜系统仅需最小的调整，近乎无接触式的操作，确保员工在工作场所的健康安全，而不会影响观测检查工作进程和生产率。由于无目镜显微镜有更长的视距，它们可以用于在层流柜中观测敏感材料，以防止污染。7.具有成本效益的解决方案考虑真正的拥有成本在考虑体视显微镜时，光学、放大、照明和人体工程学等技术的进步最有可能影响决定。其他还需要考虑的是高质量显微镜带来的好处，以及购买低质量显微镜如何影响时间和成本。质量差成本高。一般而言，一个公司因浪费、返工和保修造成的损失平均为10%。如果质量标准不提高，制造商的声誉就会受损。当由于供应链材料质量不佳而未能在截止日期前完成生产，或由于员工健康状况而导致生产延误时，公司也可能发生亏损。由于工人必须长时间保持眼镜盯着同一位置，他们经常会感到眼睛疲劳、头痛和眼睛不适，需要多次休息来缓解，这占用了工作时间。无目镜显微镜提供了一个理想解决方案，提高用户的舒适度，这将大大提高产能和生产率。从长远来看，一个不太昂贵的显微镜的“真正成本”，可能会更贵。没有必要买比所需更多更花哨的东西，然而，重要的是要提前思考，考虑业务可能会如何变化和增长，以及一些无形的东西，比如如果不能提供高质量产品时，用于修复声誉的成本。