一款低成本的科研型无掩模光刻系统UTA-1A

对于科研人员来说，光刻环节的 “高成本、高门槛” 常常让人望而却步 —— 传统光刻不仅价格需要定制昂贵的掩模版，操作复杂且灵活性差，稍有需求变动就可能面临成本翻倍的困境。

       虽然目前市面上的激光直写光刻设备相对传统掩模光刻机要低，但是对于预算有限的科研人员来说，还是有不小的经费压力。却用一种 “轻量级创新” 解决了这些痛点。但今天要给大家推荐的无掩模光刻装置，它没有采用复杂的全新技术架构，而是巧妙结合了 DLP 投影仪与金属显微镜这两种成熟设备，既实现了数微米级的曝光，又把成本拉到了更亲民的范围，让微纳加工不再是 “少数人的游戏”。

1. 成本 “减负”

       仅通过 “DLP 投影仪 + 金属显微镜” 的组合，就能搭建起完整的曝光系统，整体成本降低 30% 以上，特别适合预算有限的科研团队和教学演示的需求。

2. 操作 “降维”

       很多科研人员头疼的 “技术门槛”，在 此系统上几乎不存在：

           1. 配套的专用软件界面简洁，支持拖拽、绘制等可视化操作，无需编程基础，半小时就能学会创建曝光图案；

           2. 想调整曝光范围，只需更换显微镜物镜倍率，从微米级的细微图案到毫米级的大范围曝光。

3. 兼容性 “加分”

       如果实验室里已经有金属显微镜，完全不用再花大价钱买新设备 ——无掩模光刻系统UTA-1A支持适配绝大多数主流金属显微镜（仅需满足基础光学接口条件），相当于给旧设备加装一个 “曝光模块”，既节省了采购成本，又避免了设备闲置浪费。

       在微纳加工技术越来越重要的今天，UTA 系列无掩模曝光装置就像一把 “亲民的工具”—— 它没有追求的jianduan参数，却用更实用、更灵活、更经济的设计，让更多人能用上高质量的光刻技术。

       如果你正在为光刻成本高、操作复杂而烦恼，不妨试试了解一下 UTA 系列，或许它能成为你科研或生产中的 “得力助手”~

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