193nm紫外波前传感器（512x512高相位分辨率）助力半导体/光刻机行业发展

2024-12-10 16:37:42 55阅读次数

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193nm紫外波前传感器（512x512高相位分辨率）助力半导体/光刻机行业发展！

摘要：

昊量光电联合法国Phasics公司推出全新一代193nm高分辨率（512x512）波前分析仪!该波前传感器采用Phasics公司技术-四波横向剪切干涉技术，可以工作在190-400nm波段，消色差，具有2nm RMS的相位检测灵敏度，能够精确测量紫外光波前的细微变化。SID4-UV-HR 紫外波前分析仪非常适合紫外光学元件表征（DUV光刻、半导体等领域）和表面检测（透镜和晶圆等）。

193nm 紫外波前传感器（512x512 高相位分辨率）在半导体/光刻机行业中具有重要作用。该传感器具有高分辨率，消色差，对震动不敏感，高灵敏度（2nm RMS）等特点，可以为半导体制造和光刻机技术提供关键波像差数据，有助于提高生产效率和产品质量，推动行业的发展。

在光刻机行业中，高精度的波前传感器是关键组件之一。它可以实时监测和校正光刻机光学系统中的误差，从而提高光刻质量和成品率。这款新的紫外波前传感器的推出，将进一步提升光刻机的性能，加速半导体行业的发展。

波前传感器原理介绍：

193nm波前分析仪采用四波横向剪切干涉技术，该技术是一种用于测量激光波前、光刻物镜波像差，光学元器件面型表征的技术，其原理是测试光波经过两个正交（0、π）的相位光栅，获得四个干涉光束，四束光两两干涉，通过测量这四个干涉光束的干涉后的光强分布来计算光波的相位分布。该技术采用0和π的二维光栅作为分光器件，利用该二维光栅将测试光分为四束，并使它们发生横向剪切干涉，得到的单幅载频干涉图中包含两正交方向的差分波前信息，通过特定的分析和定量计算（反傅里叶变换）可实现瞬态波前检测。

波前传感器主要功能介绍：

一、光学和光学系统计量

1.1 光刻物镜和光学镜头计量

Phasics的四波横向剪切干涉测量（QWLSI）波前传感技术的独特功能允许测量高数值孔径光束(Up to NA:0.95)，而无需任何中继光学器件。这一独特的优势简化了测量设置。在单次拍摄中，同时测量波前误差（WFE）和调制传递函数（MTF）。物镜、子组件和zui终组件的鉴定是完整且易于实施的。事实上，SID4波前传感器只需放置在聚焦后几毫米处的发散光束中。测量后，借助 Phasics 软件模块 Design Pro，波前测量可以与理论 Zemax 模拟进行比较。

1.2 复杂光学系统对准/计量

参考球体或显微镜物镜可以很容易地放置或拧到R-Cube模块的出口处。在此配置中，点源创建一个发散光束，该发散光束注入被测系统中。实时波前显示允许监控和优化光学对准。

1.3面型检测

当集成到反射装置中时，Phasics SID4波前传感器可以执行面型检测。Kaleo 软件输出3D 曲面图和凸面或凹面（如透镜、镜子或模具）的曲率半径。ISO 10110 标准定义的所有表面质量参数，如表面不规则度、粗糙度和波纹度，都是从该测量中计算得出的。也可以在任何方向上提取表面轮廓，并且可以将结果与理论表面进行比较。

二、激光测试和自适应光学控制

Phasics的波前传感器以其无与伦比的高分辨率（512x512）和易用性而著称。一台仪器可以涵盖广泛的用途：光束测试、光学系统对准、自适应光学和等离子体表征。Phasics SID4波前传感器为超快激光研究实验室和激光制造环境中的研发工程师、生产团队和研究人员提供了全面的多功能性。使用自适应光学器件对光束进行鉴定和校正可以在从紫外到长波比橡胶的任何类型的激光系统上进行：连续高功率、飞秒太瓦和拍瓦链、固态激光器、OPCPA、气体激光器、可调谐激光器等。

2.1 激光检测

SID4 波前传感器与其光束分析软件相结合，可对激光进行完整的诊断：波前像差、强度分布、激光束质量参数（M2、发散角、束腰等）。Phasics 的波前分析仪可以定位在光学装置的任何点，无论光束是准直的还是发散的。Phasics SID4波前传感器适用于从紫外（190nm）到远红外(14um)的任何连续或脉冲激光。

2.2 自适应光学

Phasics波前分析仪可与任何可变形光学器件兼容：如压电可变形镜、机械可变形镜、电磁可变形镜和MEMS可变形镜以及空间光调制器和自适应透镜。为了校正超快激光，Phasics自适应光学环路通过波前像差补偿实现精细的校正。OASys 自适应光学环路结合了 Phasics 独特的高分辨率 SID4 波前传感器和适合项目要求的可变形反射镜设备，OASys可实现闭环控制。