“芯”中有“离”-赛默飞离子色谱高纯试剂中杂质离子检测方案守护芯片质量

图1 Dionex ICS6000+AS-HV

图2 100ppt阴离子标准溶液色谱图

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图3 20ppt阳离子标准溶液色谱图

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• 通过大体积浓缩进样，在线水纯化系统、在线淋洗液发生系统和连续自动电解抑制器使系统获得稳定的背景和噪音，并提供超低系统空白，这些是定量限5ppt的有效保障；

• 系统自带标曲配制功能；

• “只加水”——无需配制淋洗液和再生液，只需加入超纯水即可完成标准曲线、样品的浓缩富集和分离测定；

• 24h待机不间断运行，可随时检测；

• 本方法同样适用于半导体车间环境空气无机阴离子、小分子有机酸和铵根的测定。
  

• 使用谱睿在线基质去除技术，高浓度样品只需要简单稀释，低浓度样品直接进样；

• 标准方法支持：SEMI C28 氢氟酸中的阴离子/GBT 31369-2015；SEMI C36 浓磷酸中的阴离子/GBT 28159-2011；SEMI 72 BOE中的阴离子；

• 优势色谱柱技术-高容量排斥柱能够承载更高浓度样品基体；

• “只加水”——系统操作简单，高准确性，无试剂引入污染。

图1 硫酸中待测阴离子分离谱图

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图2 浓硫酸中铵根离子加标分离谱图

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• 赛默飞独家解决方案，即一维使用色谱柱将酸根离子和其他常见阴离子分离，通过浓缩柱富集待测阴离子，富集的阴离子部分在二维切换到分析系统中实现分离检测；

• 多款可选色谱柱针对性解决不同强酸离子和待测离子的分离，提供技术可行性；

• 灵敏度完全满足Semi标准，符合电子级浓硝酸、浓硫酸和浓盐酸中阴痕量离子杂质和铵根的测定要求。

图1在线基体去除技术检测氨水中7种阴离子

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图2 在线中和技术检测四甲基氢氧化铵中10种阴离子和有机酸（点击查看大图）

• 采用在线基体去除技术将样品基质中氨水主成分进行在线去除，有效避免氨水样品基质对待测离子分析检测的干扰，氨水样品直接进样，无需任何前处理；

• 材质简单，独特的去除基体装置无磺化材料残留，提供更低的硫酸根空白；

• 平衡时间短：开机后，充分水化或运行2-3针后即可开始正常分析样品；

• 针对TMAH等难挥发的碱类，可采用在线中和技术，配合氢氧根梯度洗脱满足常见10种阴离子完全分离，各个离子包括碳酸根的检测灵敏度完全满足且高于Semi标准。

图1 Dionex Inuvion with RFIC 高压离子色谱

图2 PGME样品及常见阴离子加标分离谱图

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• 通过谱睿技术在线技术去除基质后，样品中的痕量阴离子被超纯水带入低压阴离子浓缩柱，被富集浓缩后再进入阴离子色谱柱完成分离测定；

• 过灵活多变的阀切换谱睿技术实现在线基质消除、浓缩富集、分析检测技术于一体，其灵敏度高于Semi标准；

• 电子级异丙醇中阴离子限量已达到亚ppb水平，完全满足且高于G5级异丙醇的检测要求；

• PGME/PGMEA中灵活调整淋洗液系统，满足氟离子、甲酸根及其他常见阴离子的分离要求。

图1 Cindion 燃烧离子色谱系统

图2 TEOS样品分离及加标谱图

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图3 六甲基二硅氧烷中总氯的检测谱图

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• 正硅酸乙酯（TEOS）作为半导体工艺中沉积所用原材料，样品仅需简单溶解后，借助于离子色谱谱睿技术轻松解决痕量游离氯离子的检测问题;

• 符合GB/T 43965-2024 国家标准 电子级正硅酸乙酯的检测要求，氯离子定量限为5ppb，适用于多种硅酯类化合物中痕量游离氯离子的含量测定；

• 燃烧离子色谱法（CIC）用于TEOS、四甲氧基硅烷、高合氢硅油，六甲基二硅氧烷等化合物中总氯的检测，全自动化的燃烧-吸收-分析过程，空白低，测定结果准确度高，重现性好。

赛默飞离子色谱方案通过灵活的阀切换技术、多种可选高容量色谱柱与先进抑制技术的结合，有效降低基体干扰；配合自动进样与在线浓缩功能，可显著提升检测灵敏度与重现性，满足ppt~ppb级别检测要求。同时，系统具备良好的方法拓展性和技术支持，可根据不同制程节点和客户新需求灵活开发检测方法，助力应对不断提高的检测规范。