我们与您分享S mart 2的新功能！

我们致力于与您的集成需求一起不断发展，S mart 2

我们很高兴与您分享一些有关我们的 S mart 2 系统 令人兴奋的消息！在本新闻中，您将了解到有关新功能的信息，有一个演示该系统在 CMP 过程的案例研究以及我们在中国的合作伙伴成功完成的一次集成的消息。

打开新的探索途径！ 

S mart 2变得更加灵活多样，添加了三个新干涉物镜，包括干涉2.5X TI和5X TI，以及明场100X EPI镜头。有了这些新镜头，显微镜的功能得到了大大增强。

接近科技的极限

使用CSI的膜厚模式，用户可以获取约为1.5微米厚的透明膜层的顶部、厚度和底部的地形数据。

CMP过程中PAD表面监测的在线计量学

在CMP过程中，频繁更换抛光垫常常导致停机时间增加和产量下降。为了解决这个问题，我们将我们的便携式系统S mart 2进行了改进，以便进行在线测量，并检测沟槽阻塞和垫片上的粗糙度情况。

S mart 2可以将抛光垫的使用寿命延长20％，为半导体、硬盘和LED晶圆制造领域提供了一种具有成本效益的解决方案。

可集成解决方案在中国取得成功

我们很高兴与您分享关于我们合作伙伴苏州黑河在中国成功集成的一些新闻和视频。

我们的技术已经证明了其与不同制造过程和系统的集成性，使它成为先进的表面计量学的一种灵活而强大的工具。

通过这种集成的成功，我们有信心会有更多的集成商能够利用我们的技术来增强他们的质量控制流程，实现更高效、更准确的结果。