Park NX20 Lite用于晶圆测量和分析的高性价比 AFM 系统
Park NX15 功能强大的原子力显微镜提高您的生产力
Park NX20 失效分析的理想选择
Park NX20 失效分析的理想选择
Park NX20 300mm 用于300毫米晶圆测量和分析的自动化纳米计量工具
概览
功能强大——助力研究如虎添翼
Park NX15不仅非常适合共享实验室里的研究人员处理各种样品、进行多变量实验,也同样适合故障分析工程师处理晶圆的系统性工作。合理的价格和强大的集成功能使其快速成为业内的明星AFM.
便捷的样品测量(包含多样品扫描)
一次可对多个样品自动成像
设计的多样本卡盘,一次至多可装载9个单独样品(可选)
全电动XY样品台行程可达 150 mm x 150 mm
通过消除扫描器串扰进行精 准的XY扫描
独立闭环XY和Z柔性扫描器
正交XY扫描
无需软件处理即可保留真实可信的样品表面形貌信息
真正非接触模式实现探针使用寿命、成像分辨率和样品的有效保护
快速的Z伺服速度,实现真正的非接触模式
针尖磨损微小化,可实现长时间的高质量和高分辨率成像
多种模式和选项
全面性的测量模式和表征方法
可实现可选配件和升级扩展功能
用于故障分析(FA)的精密电学测量
技术信息
便捷的样品测量(包含多样品扫描)
Park NX15 多样品扫描系统
一次可对多个样品自动成像
多样品卡盘,一次可装载9个单独样品(可选)
全电动XY样品台行程可达 150 mm x 150 mm
使用电动样品台,多样品扫描可实现多区域同步成像和扫描自动化。
以下是它的工作原理:
1.用户可自定义多个扫描位置
2. 去开始扫描位置进行成像
3. 抬针
4. 将机动平台移动到下一个用户定义的坐标
5. 下针
6. 重复扫描
通过输入样品台坐标,利用两个参考点消除样品偏移,即可精 准定位多个扫描位置。该自动化功能大大简化了繁琐的手动操作流程,提高了工作效率。

无扫描器弓形弯曲的平直正交XY轴扫描
Park的串扰消除技术不仅修正了扫描器弓形弯曲的缺点,还能在不同扫描位置、扫描速率和扫描尺寸条件下进行平直正交XY轴扫描。即使是平坦的样品也不会出现如光学平面、各种偏移扫描等背景曲率。因此Park能不惧艰难挑战,为您在研究中提供高精度的纳米测量。
Park的优势在于匠心独运的扫描器架构。基于独立XY扫描器和Z扫描器设计的挠曲结构,能让您轻松获得的较高精度纳米级分辨率数据。

行业领跑的低噪声 Z 探测器
Park AFM 配备了该领域有效的低噪声Z探测器,噪音水平低于0.02 nm,因而达到了样品形貌成像精 准,没有边沿过冲无需校准的高效率。Park NX系列不仅为您提供高精 准的数据,更为您大大节省了时间成本。

利用低噪声Z探测器信号进行形貌成像
Z探测器噪音水平低于0.02 nm
没有边沿过冲,无需额外校准
只需在工厂校准一次
样品:1.2 μm 标准台阶高度
(9 μm x 1 μm, 2048 pixels x 128 lines)
Non-Contact™ 模式可延长探针寿命、保护样品并精 准测量
True Non-Contact™ 模式是Park原子力显微镜系统专有的扫描模式。该模式通过在扫描过程中防止针尖和样品损坏,产生高清的分辨率和准确的数据。
接触模式下,针尖在扫描过程中持续接触样品;轻敲模式下,针尖周期性地接触样品;而在非接触模式下针尖不会接触样品。因此,使用非接触模式具有几大优势。由于针尖锐度得以保持,所以在整个成像过程中会以高分辨率进行扫描。非接触模式下由于针尖不会直接接触样品表面,从而避免了损坏软样品。
减少针尖磨损 → 长时间高分辨率扫描
无损式探针- 样品接触 → 样品受损微小化
可满足各种条件下,对各种样品的非接触式扫描


此外,非接触模式可以感知探针与样品原子之间的作用力,甚至可以检测到探针接近样品时产生的横向力。因此,在非接触模式下使用探针可以有效避免撞到样品表面时突然出现的高层结构。而接触模式和轻敲模式只能进行探针底端检测,很容易受到这种撞击伤害。

原子力显微镜模式
具有扩展性的 AFM 解决方案
行业领跑——支持广泛的SPM 模式和选项
如今,研究人员需要在不同的测量条件和样品环境下表征广泛的物理特性。 Park Systems能为您提供广泛的 SPM 模式、多样的 AFM 选项以及业界领跑的选项兼容性和可升级性,支持多种样品表征。

Park NX15 拥有广泛的SPM模式
形貌成像
非接触
接触
轻敲
介电/压电特性
压电力显微镜 (PFM)
高压PFM
压电响应光谱
磁学特性
磁力显微镜 (MFM)
电学特性
导电原子力显微镜 (C-AFM)
电流-电压分光镜
开尔文探针力显微镜 (KPFM)
高压KPFM
扫描电容显微镜 (SCM)
扫描扩展电阻显微镜 (SSRM)
扫描隧道显微镜 (STM)
光电流映射 (PCM)
静电力显微镜 (EFM)
力学特性
力调制显微镜 (FMM)
纳米压痕
纳米刻蚀
高压纳米刻蚀
纳米操纵
横向力显微镜(LFM)
力距 (F/d) 光谱
力容积成像
化学特性
具有功能化探针的化学力显微镜
纳米压痕
电化学显微镜 (EC-AFM)
技术参数
Park NX15 技术参数
Flexure guided high-force scanner
Scan range: 15 μm (optional 30 μm)
Single module flexure XY-scanner with closed-loop control
Scan range: 100 µm × 100 µm
Motorized Z stage travel range: 25.5mm,
optional precision encoder for better stage repeatability
Motorized XY stage travel range:
150 mm,
optional precision encoders for better XY stage repeatability
Sample size: Up to 150 mm wafer sample
AFM system control and data acquisition software
Auto mode for quick setup and easy imaging
Manual mode for advanced use and finer scan control
AFM data analysis software
Stand-alone design—can install and analyze data away from AFM
Capable of producing 3D renders of acquired data

报价:面议
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Park NX-Hivac通过为失效分析工程师提供高真空环境来提高测量敏感度以及原子力显微镜测量的可重复性。与一般环境或干燥N2条件相比,高真空测量具有准确度好、可重复性好及针尖和样本损伤低等优点。
高精度探针针尖变量的亚埃米级表面粗糙度测量,晶圆的表面粗糙度对于确定半导体器件的性能是至关重要的,对于先进的元件制造商,芯片制造商和晶圆供应商都要求对晶圆商超平坦表面进行更精确的粗糙度控制。
对于工程师来说,识别介质/平面基底的纳米级缺陷的任务是一个非常耗时的过程,Park NX-HDM原子力显微镜系统可以自动缺陷识别,通过与各种光学仪器的联用可以提高缺陷检测效率。
Park Systems推出NX-3DM全自动原子力显微镜系统,专为垂悬轮廓、高分辨率侧壁成像和临界角的测量而设计。
CSI是一家法国科学设备制造商,拥有专业的AFM设计概念,以及为现有的AFM提供设计选项。它避免了激光对准需要预先定位针尖的系统,针尖/样品的顶部和侧视图,结合垂直的马达控制系统,使预先趋近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同时提供原子力显微镜成像和纳米机械测量。它综合了这两种技术的优点,可高速获得高分辨率的三维图像,并且在微纳米和亚纳米尺度上实时观察纳米级力的相互作用,与常规SEM/FIB兼容,