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赛默飞世尔 Neoma™ MS/MS MC-ICP-MS质谱仪参数

来源:赛默飞色谱与质谱中国 更新时间:2026-04-03 14:45:04 阅读量:21

一、Neoma™ MS/MS MC-ICP-MS核心定位

Neoma是赛默飞世尔针对高精度同位素分析与痕量元素检测开发的双聚焦多接收电感耦合等离子体质谱仪,集成MS/MS碰撞反应池(CRC)技术,可有效消除同量异位素、多原子离子等干扰,兼顾高分辨率与高灵敏度,适配实验室、科研及工业检测等多场景需求。

二、关键技术参数(公开核心指标)

技术参数 具体指标及说明
分辨率 R=10000@10%峰高(可切换低分辨率R=300@10%峰高,平衡灵敏度与干扰分离)
质量范围 6–250 u(覆盖轻元素(如Li、B)至重元素(如U、Pb),支持多元素同时分析)
检测系统 12个法拉第杯(检测范围1e6–1e12 cps)+ 2个离子计数器(1e3–1e6 cps),宽动态范围
碰撞反应池(CRC) 可选He、H₂、NH₃等反应气体,动能歧视(KED)模式可消除99%以上多原子离子干扰(如ArO⁺对Fe⁵⁶)
灵敏度(典型值) U²³⁸(离子计数器)>1e6 cps/ppm;Nd¹⁴⁶(法拉第杯)>5e5 cps/ppm(依进样系统优化)
同位素精度 ²⁰⁶Pb/²⁰⁴Pb长期精度<0.05% RSD;⁸⁷Sr/⁸⁶Sr精度<0.01% RSD(n=10,10分钟积分)
分析速度 瞬态信号采集速率>100 Hz(适配激光剥蚀、流动注射等进样技术)

三、典型应用场景

Neoma的技术特性覆盖多领域高精度分析:

  • 同位素地球化学:U-Pb锆石定年(分辨率>4000分离²⁰⁶Pb与²⁰⁶Ni)、Sr-Nd-Pb同位素示踪(CRC消除Ar干扰);
  • 半导体检测:Si/GaN晶圆中痕量杂质(B、P、Fe等,检测限<10 ppt);
  • 环境监测:水体/土壤Hg、As形态分析(HPLC-ICP-MS联用,检测限<1 ppt);
  • 生物医药:细胞金属组学(痕量Cu、Zn、Fe多元素同时分析);
  • 食品质控:婴幼儿配方粉Pb、Cd残留(检测限<5 ppt,符合GB 2762要求)。

四、总结

Neoma通过双聚焦磁质谱+MS/MS CRC的技术组合,解决了传统MC-ICP-MS的干扰痛点,其高分辨率、宽动态范围与高精度特性,为科研与工业检测提供了可靠工具,是同位素与痕量分析领域的核心设备之一。

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