YP-ZK20优云谱小型等离子清洗设备参数

核心技术特点

YP-ZK20针对实验室研发、高校科研及精密检测场景，聚焦低温等离子体表面改性核心功能，核心技术特点如下：

• 低温射频激发：采用13.56MHz±0.5%国际标准频率，等离子体温度≤50℃（距样品台5cm实测），避免热敏材料（塑料、生物膜）热损伤；
• 多气体兼容：支持O₂、Ar、N₂三路工艺气体，单路流量0-50sccm精准控制，气体切换响应时间≤2s；
• 紧凑型设计：有效处理腔体积12L（Φ200mm×H300mm），整机体积450×350×400mm，适配实验室通风橱内操作；
• 智能控制：7寸触摸屏支持10组工艺参数记忆，实时监控真空度、功率、温度，异常报警响应≤0.5s；
• 低真空系统：内置旋片泵，极限真空≤5Pa，抽气速率≥0.5L/s（20℃），满足快速腔体预处理需求。

关键性能参数

典型应用场景

结合实验室、科研及检测行业需求，YP-ZK20的典型应用包括：

• 材料研发：塑料（PET/PP）、玻璃、金属表面清洁（去除油污/氧化层）、活化（亲水性提升：接触角从75°降至30°以内，实测数据）；
• 高校科研：生物材料（细胞培养皿）改性、半导体晶圆预处理；
• 精密检测：光学镜片（镀膜前有机污染物去除）、电子元件（PCB板表面活化）；
• 小型工业：医疗器械（导管亲水改性）、电子配件（连接器清洁）小批量处理。

操作注意事项

1. 工艺气体需满足纯度≥99.99%，避免杂质影响处理效果；
2. 真空泵每6个月更换一次真空泵油，确保抽气效率；
3. 热敏样品（如生物膜）单次处理时间≤5min，防止热积累损伤。

YP-ZK20已在多所高校及检测机构落地，用户反馈处理效果一致性达95%以上，兼具便携性与性能稳定性，适配多场景需求。