什么是RTP（快速热处理）？什么是RTA（快速热退火）？有什么区别？

RTP（Rapid Thermal Processing）是所有快速热处理的统称！但不限于：RTA（快速热退火）、RTO（快速热氧化）、RTN（快速热氮化）、合金化... ...

RTP与RTA、RTO、RTN之间的联系

RTP设备通过精确控制温度-时间曲线，实现对材料结构、界面特性或杂质分布的调控。我们嘉仪通常说的RTP快速退火炉，就是根据需要，通过软件控制设置，可实现多种工艺模式。如RTA工艺，通过快速升降温，在极短时间内（几秒至几十秒）完成特定退火目的。又或者在O2、N2等气体氛围下，通过多阶段升降温以及长时间恒温，实现RTO、RTN等热处理工艺。

RTP与RTA对比

RTP与RTA案例对比

RTP和RTA怎么选

RTP（快速热处理）：若需求涉及材料表面改性、薄膜生长或复杂化学反应（如高k介质沉积前的表面预处理）。例如：RTP 用于高k /金属栅堆叠中的界面处理，两者协同确保器件性能。

RTA（快速热退火）：若需求为快速激活杂质或修复晶格，且需严格控制扩散（如先进制程中的浅结）。例如：在 7nm 以下工艺中，RTA 用于 EUV 光刻后的掺杂激活。

总结

RTA（快速热退火）和 RTP（快速热处理）是半导体制造中常用的热处理工艺技术，两者核心原理相同，但在应用场景、温度曲线、工艺目的上存在差异。