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可快速测试Seebeck系数，对样品无特殊要求，测量方法稳定可靠

薄膜热电参数测试系统是专门针对薄膜材料的Seebeck系数和电阻率测量，测温范围达到81K~700K，采用动态法测量Seebeck系数,避免了静态测量在温差测量上的系统误差,测量更准确。

热电参数测试系统采用动态法(具有ZL技术)和四线法分别测量样品的Seebeck系数和电阻率。 热电参数测试系统主要是用于测试块体热电材料，包括康铜、镍、钨等金属，Te、Bi2Te3、ZrNiSn、Z...

霍尔效应测试系统依据范德堡法测量材料的电运输性能参数：载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等，薄膜或薄层材料均可测量，可应用于所有半导体材料，包括Si、ZnO、SiGe、SiC，GaAs，InGaAs...

薄膜变温电阻测试仪采用双电法测量高温、真空、气氛条件下的电阻和电阻率，可以用来分析样品的电阻率随温度变化曲线、电阻温阻系数、样品相变温度点。其广泛用于光电、铁电、热电等各种导电材料的电阻率测量。

薄膜热导率测试系统采用3ω测试方法，有效克服了样品表面热辐射现象，能够良好测试微/纳米薄膜材料的热导率。可广泛应用于辅助各种功能薄膜材料的研究与开发，涵盖范围包括集成电路散热材料、航空航天材料、热电材...

薄膜热导率测试系统采用3ω测试方法，有效克服了样品表面热辐射现象，能够良好测试微/纳米薄膜材料的热导率。可广泛应用于辅助各种功能薄膜材料的研究与开发，涵盖范围包括集成电路散热材料、航空航天材料、热电材...

光功率热分析仪是世界首台纳米级薄膜材料物性分析仪，填补了国际对纳米级薄膜材料无损检测其相变温度和热膨胀系数的技术空白！不仅可用于检测块体，还可检测低至1nm的薄膜材料。根据材料相变前后光学性质（反射光...

热膨胀系数分析仪采用创新的光干涉原理ZL技术，可无损检测块体和薄膜样品透明材料的热膨胀系数，广泛应用于辅助各种新材料，尤其是薄膜材料的研究与开发以及质量检验。

相变温度分析仪根据材料相变前后光学性质（反射光功率）有较大差异的特性，在程序控温下，使用一束恒定功率的激光照射样品表面，记录反射光功率变化，形成反射光功率与温度变化曲线，从而确定相变温度。并且具有ZL...

液氮低温恒温器是利用稳态气泡原理使样品处于恒定或按照所需方式变化的低温环境中，并能对样品进行一种或多种物理性能测量的低温恒温装置。 恒温器是利用稳态气泡原理（SVB）控温的低温恒温器。其主液池中装有液...

快速退火炉LRTP-1200，采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸）快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热...

红外退火炉采用红外辐射加热技术同时搭配高精度温度控制系统，极大程度上改善了电阻式加热的弊病，同时可实现样品快速升温和退火。可广泛应用于强诱导体薄膜的结晶化退火、注入离子后的扩散退火、半导体材料的烧成与...

石墨烯退火炉 GRTP-1200，是根据石墨烯材料（氧化石墨烯、石墨烯复合材料等）独特的退火要求，专项研发出的一款快速退火炉。其采用红外辐射加热技术同时搭配高精度温度控制系统，进一步升级改进了样品装夹...