显微课堂| 半导体芯片应用案例

芯片表面明暗场对比

    左右滑动查看更多    

用DIC模式观察的1000x放大下的芯片表面（不同的倾斜角度）

荧光观察是表征芯片表面宏观缺陷的一种常用手段，通常用来观察大颗粒污染或者光刻胶涂布等缺陷，同时也可以用来观察OLED等发光器件。

    左右滑动查看更多    

荧光用来观察芯片表面

    左右滑动查看更多    

使用宏观物镜能够实现迅速观察大范围样本，下图是0.7x宏观物镜与150x高分辨物镜的视野对比。

0.7x 

 150x

    左右滑动查看更多    

超高分辨紫外光观察

    左右滑动查看更多    

紫外斜照明

    左右滑动查看更多    

斜照明观察，可以帮助对于缺陷的正确表征，观察到常规明场下看不到的缺陷

    左右滑动查看更多    

的历史最早可追溯到19世纪，作为德国著名的光学制造企业，徕卡显微成像系统拥有170余年显微镜生产历史，逐步发展成为显微成像系统行业的领先的厂商之一。徕卡显微成像系统一贯注重产品研发和最新技术应用，并保证产品质量一直走在显微镜制造行业的前列。

始终与科学界保持密切联系，不断推出为客户度身定制的显微解决方案。徕卡显微成像系统主要分为三个业务部门：生命科学与研究显微、工业显微与手术显微部门。徕卡在欧洲、亚洲与北美有7大产品研发中心与6大生产基地，在二十多个国家设有销售及服务分支机构，总部位于德国维兹拉(Wetzlar)。