文丨储金村
编辑丨市场部
发布丨先锋科技
技术背景与行业痛点
半导体制造进入纳米级工艺时代，晶圆缺陷检测面临三大挑战：
1）深紫外波段光学噪声干扰：传统偏振片在200-400nm波段透光率不足，导致缺陷信号被噪声掩盖；
2）真空腔体污染风险：杂散光吸收材料释气率超标引发EUV光刻系统稳定性下降；
3）套刻误差测量精度不足：位置探测器线性度误差＞0.5%时，28nm以下图形套刻偏差难以控制。
本方案整合Moxtek、Acktar、On-Trak三家光学元件产品，覆盖“光路控制-杂散光抑制-定位测量”等方面检测需求，为28nm以下晶圆缺陷检测技术提供关键光学元件支撑。
核心光学元件技术解析
Moxtek金属线栅紫外偏振片
型号：UVT240A / UVX240A / UVD240A / UCMNATC0
??名家专栏 | 量子科技在光电领域的应用
??【聚焦光谱】斯坦福（SRS）品牌仪器现货供应！
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