半导体制造

高密度等离子体双射频协同控制，采用双13.56MHz射频电源控制等离子体密度的组合，可产生离子密度＞10¹¹cm³的等离子体，用于高深宽比结构的保形沉积。良好的均匀性和重复性，适合中小规模生产； 低...

通过不同气体组合，可以刻蚀多种材料（半导体、金属、介质等）； 高精度+各向异性，能刻蚀出侧壁陡直、尺寸精确的图形； 优秀的均匀性和重复性，适合科研材料刻蚀开发及中小规模生产； 多物理场协同调控，...

高精度和各向异性：能刻蚀出侧壁陡直、尺寸精确的图形； 良好的均匀性和重复性：适合大规模生产； 材料适用性广：通过不同气体组合，可以 刻蚀多种材料； 高选择比：可针对性的刻蚀特定材料而不损伤其他材...