日本日立/Hitachi

#13; 新品详情 上市时间：2012年11月 创新点:高画质的钨灯丝扫描电镜,图象质量更进一步。 通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性,凝聚日立zu

构紧凑，性能高 与现有型号相比，减少了20%的体积。 标配可变压力模式。 保证30 kV电压时，二次电子3.0 nm的分辨率， 背散射电子4.0

高分辨率SU-8000系列，满足客户对SEM之不同需求。特长低加速电压下超高分辨率观察（二次电子解析度1.3nm/1.0kV）新增Topper Detector利于最表面情报之观察 可提供多重讯号输出

立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30k

一代系统，效率更高、精度更高、质量更高。 具有大面积离子铣能力，提供高速透射电子显微镜样品制备。 60纳安离子束电流，提高了做样效率。 低加速原位电压，样品制备损坏率低。

#13; Cross section and sample surface polishing ability combined in a single unit The

rovides higher-resolution images through optimization of the electron optics systemWith the newly de

真空可描式子微 FlexSEM 1000 Scanning Electron Microscope FlexSEM 1000 精的安空, 也可分解安於一般桌面全新自子位校正功能，自行全新的低像差子光系

立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像--日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新

014年8月4日，日立高新推出新款台式电镜TM3030Plus。TM3030Plus配置了高灵敏度的探测器，可以在低真空状态下观察二次电子图像，并且无需样品制备即可进行实时二次电子成像。　　日立高新在

日立高新场发射扫描电子显微镜SU8200系列（HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series，SU8220，SU8230，SU8240）采用日立高新技术公司全新开发的冷场电子枪，实现

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控