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- 品牌: 芬兰Picosun
- 型号:PICOSUN ALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,
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- 品牌: 芬兰Picosun
- 型号:PICOSU NALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领dao者...
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- 品牌: 荷兰Trymax
- 型号:Trymax NEO300A/NEO
- 产地:荷兰
Trymax 先进等离子灰化和蚀刻 NEO300A/NEO200A系列平台 NEO300A系列平台是Trymax半导体设备行业领先的NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的zui新成员之一。 ...
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- 品牌: 荷兰Trymax
- 型号:NEO3400 Trymax-NEO
- 产地:荷兰
NEO3400系列是Trymax半导体设备行业-NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的zui新成员之一。 它可以满足zui高产量,适应每个生产阶段和预算。 NEO 3000系统可配置任何现有的Tr...
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TRYMAX 等离子除胶机 型号:NEO系列价格:面议
- 品牌: 荷兰Trymax
- 型号:TRYMAX NEO
- 产地:荷兰
Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择,目前已有上百台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领...
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EVG®510HE 热压印系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG®510HE
- 产地:奥地利
高度灵活的热压花系统,用于研发和小批量生产
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EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG®610
- 产地:奥地利
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到最大150毫米
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IQAligner®NT自动掩模对准系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:IQAligner®NT
- 产地:奥地利
IQ Aligner®NT经过优化,可实现zui高吞吐量的零辅助非接触式接近处理。
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IQAligner® 自动掩模对准系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:IQAligner®
- 产地:奥地利
EVG®IQAligner®平台经过优化,可用于zui大200 mm晶圆的自动非接触式接近处理。
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- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG®6200NT
- 产地:奥地利
EVG®6200NT掩模对准器是用于光学双面光刻和zui大200 mm晶圆尺寸的多功能工具。
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EVG®620NT 掩模对准系统(半自动/自动)价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG®620NT
- 产地:奥地利
EVG®620NT在zui小的占位面积(zui大150 mm晶圆尺寸)上提供了zui先进的掩模对准技术。
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EVG®610 掩模对准系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG®610
- 产地:奥地利
EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统,可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
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GEMINI FB 自动化生产晶圆键合系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:GEMINI FB
- 产地:奥地利
EVG的GEMINI FB XT集成熔合系统扩展了当前标准,并结合了更高的生产率,更高的对准度和覆盖精度,适用于诸如存储器堆叠,3D片上系统(SoC),背面照明CMOS图像传感器堆叠和芯片分割等应用。...
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EVG 850 SOI的自动化生产键合系统价格:面议
- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG 850 SOI
- 产地:奥地利
SOI晶片是微电子行业有望生产出更快,性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术,可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅膜。借助EVG850 SOI生产粘合系统...
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- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG 850LT SOI
- 产地:奥地利
EVG 850 LT Automated Production Bonding System for SOI and Direct Wafer Bonding EVG 850LT SOI和直接...
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- 品牌: 奥地利EVG
- 型号:EVG 810LT LowTemp™
- 产地:奥地利
适用于SOI,MEMS,化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统 技术数据 EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操作的单腔独立单元。 处理室允许进行异位处理(...