电子束加热蒸发源

主要特点  超高真空兼容  蒸发温度最高可达3000℃  精确的线性推进：0.01mm精度，25mm行程，专利设计  内置挡板，不受空间限制完全打开  可靠的束流监控，有效避免外界电磁场影响  填料方便快速 主要应用  表面科学  超薄膜层  多分子层  掺杂  样品制备  密接金属化 技术参数  安装法兰: NW35CF (CF2.75”)  烘烤温度: 200℃  腔内直径: 34mm  腔内长度: 210 mm标准长度， 170mm~400mm 可选长度  源数量: 1  样品类型: 棒材，颗粒，粉末（可供坩埚）  冷却方式: 内部水冷, 1L/min  束流监控范围: 0.1nA~1mA  灯丝电流: 0~7A (10mA step)  加速电压: 0-2500V  最大功率: 250W  束流发散度: ±6°  蒸发温度: ＞3000℃  坩埚尺寸: 0.1cc, 0.15cc  坩埚材料: W, Mo, Ta  棒材尺寸: 直径1-4 mm, 长度20-100mm