详细介绍
纳米压印机特色：
• 体积小巧，容易存放，桌面型；
• 轻微复制微米和纳米级结构；
• 热压印温度高达200℃；
• 可选的高温模块，适用于250℃；
• UV纳米压印，365nm曝光；
• 可选的UV模块，适用于405nm曝光；
• 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；
• 纳米压印压力高达11bar；
• 温度分布均匀、读数精准；
• 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；
• 直径最大210mm（圆形）腔室；
• 腔室高度为20mm；
• 即插即用
• 使用简单直观
• 专为研发而设计
• 提供安装和操作教程视频
产品优势
科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。
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