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清洗机

 
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美国 紫外臭氧清洗机UVO系列 T10x10/OES
  • 品牌: 深圳科时达
  • 型号:UVOT10x10/OES
  • 产地:深圳
  • 紫外臭氧清洗工作原理:清洗设备的核心是低压石英汞灯,产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生,有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原...

NPC-4000 (M) 等离子清洗机
  • 品牌: 美国Nano-Master
  • 型号:NPC-4000(M)
  • 产地:美国
  • Plasma Cleaner等离子清洗机NPC-4000(M)等离子清洗机概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到...

LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统
  • 品牌: 美国Nano-Master
  • 型号:LSC-5000(AD)
  • 产地:美国
  • NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到ZY化的清洗效果,兆声...

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